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詳細(xì)摘要： 簡單介紹：大氣旋轉(zhuǎn)等離子清洗機(jī)又叫等離子表面處理儀（器），是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：大氣低溫等離子清洗機(jī)作用到固體樣品表面,不但去除了表面原有的污染物和雜質(zhì),而且會產(chǎn)生刻蝕作用,將樣品表面變粗糙,形成許多微細(xì)坑洼,增大了樣品的比表面。...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：實(shí)驗(yàn)室紫外線臭氧清洗機(jī)可用于去除石英、硅片、金、鎳、鋁、砷化鎵、氧化鋁等大多數(shù)無機(jī)基材上的有機(jī)污染物，提供了一種高效、精密的清洗方式，也是表面改性的一...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：緊湊型紫外線臭氧清洗機(jī)用于清潔所有類型的晶體基板，以低成本實(shí)現(xiàn)更好的薄膜質(zhì)量。此外，緊湊型紫外線臭氧清洗機(jī)是去除和剝離光刻膠、改善表面潤濕性、清潔SE...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：8.5"實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)是一種等離子體清洗劑或蝕刻裝置，直徑8.5英寸x 14英寸長石英腔和0 - 80W可變射頻功率。8.5"實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)采...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：緊湊型等離子清洗機(jī)帶有數(shù)字真空傳感器和顯示器，以及鉸鏈門。適用于各種氣體對2英寸以下晶圓片的納米級有機(jī)污染物進(jìn)行清洗和去除。在高射頻功率下，有機(jī)去除率...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：等離子濺射和碳蒸發(fā)二合一鍍膜儀是一款二合一緊湊型涂層裝置，配有雙級旋轉(zhuǎn)葉片真空泵，可將等離子濺射和蒸發(fā)集成到一臺小型機(jī)器中。等離子濺射和碳蒸發(fā)二合一鍍...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng)，具有雙靶2"目標(biāo)源，例如，一個直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個射頻源用于涂覆非金屬材料。雙靶高真空磁控...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1"射頻等離子體磁控濺射系統(tǒng)，設(shè)計用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是研究新一代氧...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀是一款緊湊型2英寸單頭射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，涂有非金屬，主要是氧化物薄膜。非導(dǎo)電薄膜等離子磁控濺射鍍膜儀將所有元件集成...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺式磁控等離子濺射鍍膜機(jī) ，帶有一個水冷2英寸靶頭，冷水機(jī)和可旋轉(zhuǎn)樣品架。大功率直流磁控濺射鍍膜儀設(shè)計用于涂覆直徑...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀是一款臺式磁控等離子濺射鍍膜機(jī)，帶有2英寸靶頭，高度可調(diào)的樣品架。特別適用于涂覆SEM樣品的導(dǎo)電金膜。緊湊型直流磁控濺射鍍膜儀...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：納米釕粉-實(shí)驗(yàn)室蒸發(fā)鍍膜耗材用于加工鉬線材、鉬板襯、電子元件、陶瓷金屬化,純鉬或鉬合金燒結(jié)制品等的原料，還可用作精密合金的添加劑

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：碲錠用于半導(dǎo)體器件、制冷器件、合金、化工原料及鑄鐵、橡膠、玻璃等工業(yè)的添加劑；二氧化碲主要用于制備二氧化碲單晶、紅外器件、聲光器件、紅外窗口材料、電子...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：CY-V1700-100IT硫化爐是一款流化床立式CVD系統(tǒng)，專門針對粉末實(shí)驗(yàn)，爐管為高純剛玉管，爐管內(nèi)部嵌有一個微孔陶瓷板，粉末可以放在微孔陶瓷板式...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：電弧爐CY-DHL-V07（非自耗式）是一款小型的電弧熔煉爐，可在不破壞氣體保護(hù)氣氛的條件下翻轉(zhuǎn)合金錠進(jìn)行多次熔煉，且同時制備多個樣品，電弧爐CY-D...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：本型號小型等離子濺射儀，采用二級濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過程中無高溫，不易產(chǎn)生熱損傷。該小型等離...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。單靶磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時，可...

詳細(xì)摘要： 簡單介紹：產(chǎn)品簡介：CY-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發(fā)的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜...