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三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。三個3英寸磁控靶，一支是強磁靶，2支永磁靶；所配電源為2個500W直流電源和1個300W射頻電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，射頻電源可用于非金屬膜的制備，三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路，以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標(biāo)配*的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進一步提高您的實驗效率。
三靶磁控鍍膜儀應(yīng)用范圍：
該設(shè)備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。三靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
| 產(chǎn)品名稱 | 三靶磁控濺射儀---靶槍下置（英文操作界面） |
| 產(chǎn)品型號 | CY-MSP300S-2DC1RF |
| 濺射電源 | 安裝有2個直流，一個射頻 直流（DC）電源：500W 射頻: 300W |
| 真空腔體 | 真空腔體：450 mm Dia x 450 mm h，采用不銹鋼制作觀察窗口： 100 mm diameter |
| 磁控濺射頭 | 儀器中安裝有3個3英寸磁控濺射靶槍（其中的一支是強磁靶，2支永磁靶），而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水對靶材降溫 |
| 載樣臺 | 載樣臺尺寸：150mm dia.（載樣臺可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)） 載樣臺*高可加熱溫度為750℃，控溫精度為+/- 1.0 °C |
| 氣體流量控制器 | 儀器內(nèi)部安裝有1個質(zhì)量流量計 量程為：0-200sccm （氬氣） 氣體流量設(shè)置可以在15.6寸屏智能控制系統(tǒng) |
| 真空泵 | 配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作600L/S |
| 真空計 | 英孚康皮拉尼真空計MPG400 測量范圍： 5 x 10-9 mbar ---大氣壓 |
| 薄膜測厚儀 | 石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 ? |
| 電壓 | 220V 50HZ |
| 備注 | 1.3支3寸濺射靶（其中的一支是強磁靶，2支永磁靶） 2.1路流量計 3.不銹鋼真空腔體 4.分子泵組 5.膜厚檢測儀 6.2臺直流電源，一臺射頻電源 7.水冷機組 8.帶旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺 9.15.6寸屏智能控制系統(tǒng) 10.空氣壓縮機 11.電控氣動閘板閥 12.電控氣動切斷閥 13.電控氣動旁抽閥 14. 英孚康真空計 MPG 400 測量范圍 |
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