詳細(xì)介紹
CY-MSP210S-2DC桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀本設(shè)備為實驗室真空PVD鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實驗室SEM樣品制備。
| 名稱 | 桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀 |
| 型號 | CY-MSP210S-2DC |
| 特點 |
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| 技術(shù)參數(shù) | 1. 供電電壓 AC220V,50Hz 2. 整機功率 4KW 3. 載樣臺參數(shù) 5. 磁控濺射頭參數(shù) 6. 真空腔體 7. 氣體流量控制器 1路200sccm Ar; 8. 真空泵 分子泵組 前級泵 旋片泵 抽速 1.1L/s 9. 膜厚儀 石英振動薄膜測厚儀一臺,分辨率0.10 ? 10. 濺射電源(2DC) |
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