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產(chǎn)品簡介

簡單介紹： ?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用，尤其是實驗室SEM樣品制備，?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀采用旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。

詳情介紹：

CY-MSP210S-2DC桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀本設(shè)備為實驗室真空PVD鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。

名稱	桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀
型號	CY-MSP210S-2DC
特點	1.采用高真空不銹鋼腔體，前開門式設(shè)計，門上配有石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄。 2.配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。 3.頂蓋上裝有一套擋板，可通過轉(zhuǎn)動擋板切換兩支靶，實現(xiàn)多層鍍膜。 4.需要配合高真空分子泵組一起使用，用戶可以選擇進口品牌小型分子泵以進一步節(jié)省安裝面積。 5.可選配膜厚儀組件，可實時監(jiān)測膜厚數(shù)據(jù)，為實驗工藝提供可靠參數(shù)。
技術(shù)參數(shù)	1. 供電電壓 AC220V，50Hz 2. 整機功率 4KW 3. 載樣臺參數(shù) 尺寸 φ100mm；加熱溫度 *高500℃；控溫精度 ±1℃；轉(zhuǎn)速 1-20rpm可調(diào) 5. 磁控濺射頭參數(shù) 數(shù)量 2個2"磁控濺射頭；水冷 6. 真空腔體尺寸φ210mm X 260mm H；材料不銹鋼；觀察窗口 φ40mm；前開門式 7. 氣體流量控制器 1路200sccm Ar； 8. 真空泵分子泵組前級泵旋片泵抽速 1.1L/s 次級泵渦輪分子泵（國產(chǎn)）抽速 600L/s 抽氣口 KF40 出氣口 KF16 9. 膜厚儀石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ? 10. 濺射電源（2DC）直流電源 2臺，輸出功率≤300W，輸出電壓≤600V，響應時間＜5ms