名稱

桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀

CY-MSP210S-2DC

1.采用高真空不銹鋼腔體，前開門式設計，門上配有石英觀察窗，便于實驗的觀察記錄。

2.配有旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。

3.頂蓋上裝有一套擋板，可通過轉動擋板切換兩支靶，實現(xiàn)多層鍍膜。

4.需要配合高真空分子泵組一起使用，用戶可以選擇進口品牌小型分子泵以進一步節(jié)省安裝面積。

5.可選配膜厚儀組件，可實時監(jiān)測膜厚數(shù)據(jù)，為實驗工藝提供可靠參數(shù)。

1.  供電電壓 AC220V，50Hz

2.  整機功率 4KW

3.  載樣臺參數(shù) 
     尺寸 φ100mm；加熱溫度 *高500℃；控溫精度 ±1℃；轉速 1-20rpm可調(diào)

5.  磁控濺射頭參數(shù) 
     數(shù)量 2個2"磁控濺射頭；水冷

6.  真空腔體 
     尺寸φ210mm X 260mm H； 材料 不銹鋼； 觀察窗口 φ40mm；前開門式

7.  氣體流量控制器 1路200sccm Ar；

8.  真空泵 分子泵組

     前級泵 旋片泵 抽速 1.1L/s
     次級泵 渦輪分子泵（國產(chǎn)） 抽速 600L/s
     抽氣口 KF40 出氣口 KF16

9.  膜厚儀 石英振動薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?

10. 濺射電源（2DC）
     直流電源 2臺，輸出功率≤300W，輸出電壓≤600V，響應時間＜5ms