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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)單介紹： ?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺(tái)）配有一臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等往復(fù)式設(shè)計(jì)，?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺(tái)）的樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。

詳細(xì)介紹

詳情介紹：

CY-MSP500S-DCRF-RE往復(fù)樣品臺(tái)型雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，設(shè)備配有一臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。本型號(hào)樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。整機(jī)均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡(jiǎn)單易上手，是實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備

名稱	往復(fù)樣品臺(tái)型雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻)
型號(hào)	CY-MSP500S-DCRF-RE
特點(diǎn)	1.能量高速度快 2.磁控靶配有水冷夾層避免熱量在靶面聚集 3.樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺(tái)左右推動(dòng) 4.采用單靶獨(dú)立、多靶輪流或組合共濺，向心濺射 5.PC+PLC全自動(dòng)控制
技術(shù)參數(shù)	1. 供電電壓 AC220V，50Hz 2. 整機(jī)功率 6KW 3. 極限真空度 5x10-4Pa 4. 載樣臺(tái)參數(shù) 尺寸 100*100mm；往復(fù)行程200mm 5. 磁控濺射頭參數(shù) 數(shù)量 2個(gè)2"磁控濺射頭；冷卻方式 10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) 6. 真空腔體尺寸 φ500mm X 490mm H；材料不銹鋼；觀察窗口 φ100mm；上頂開(kāi)式，便于更換靶材 7. 氣體流量控制器 1路200sccm Ar； 8. 真空泵配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S 9. 膜厚儀石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ? 10. 濺射電源（1DC 1RF）直流電源，500W，適用于制備金屬膜射頻電源，500W，適用于非金屬鍍膜 11. 操作方式一體機(jī)電腦操作
規(guī)格	整機(jī)尺寸 1090mm X 900mm X 1250mm 整機(jī)重量 350kg