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詳細(xì)介紹
詳情介紹：
本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
本套配置采用高真空不銹鋼腔體，前開(kāi)門(mén)式設(shè)計(jì)，門(mén)上配有石英觀察窗，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái)，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。頂蓋上裝有一套擋板，可通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)擋板切換兩支靶，實(shí)現(xiàn)多層鍍膜。
本設(shè)備需要配合高真空分子泵組一起使用，用戶(hù)可以選擇進(jìn)口品牌小型分子泵以進(jìn)一步節(jié)省安裝面積。
同時(shí)該型號(hào)可選配膜厚儀組件，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)膜厚數(shù)據(jù)，為實(shí)驗(yàn)工藝提供可靠參數(shù)。
雙靶磁控鍍膜儀參數(shù)：
| 樣品臺(tái) | 尺寸 | 100mm | 加熱溫度 | ≤500℃ |
| 旋轉(zhuǎn)速度 | 1-20r/min | 控溫精度 | ±1℃ | |
| 磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2英寸 x2 | 冷卻方式 | 水冷 |
| 真空腔體 | 腔體尺寸 | φ210mm X 260mm | 觀察窗口 | φ40mm |
| 腔體材料 | 不銹鋼 | 開(kāi)啟方式 | 前開(kāi)門(mén)式 | |
| 電源配置 | 直流電源數(shù)量 | 1臺(tái) | 輸出功率 | ≤300W |
| 輸出電壓 | ≤600V | 響應(yīng)時(shí)間 | ＜5ms | |
| 水冷系統(tǒng) | 水箱容積 | 9L | 流量 | 10L/min |
| 膜厚儀 | 測(cè)量精度 | 0.1埃米 | 冷卻方式 | 水冷 |
| 其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 整機(jī)功率 | 4kw |
| 分子泵組 | 前級(jí)泵 | 旋片泵 | 抽速 | 1.1L/s |
| 次級(jí)泵 | 渦輪分子泵（國(guó)產(chǎn)） | 抽速 | 600L/s | |
| 抽氣口 | KF40 | 出氣口 | KF16 |
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