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桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀

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  • 型號 CY-MSP210S-DC-D
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更新時間:2023-02-15 11:51:13瀏覽次數(shù):447

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產(chǎn)品簡介

簡單介紹: 雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備

詳細介紹

詳情介紹:

本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。

本套配置采用高真空不銹鋼腔體,前開門式設(shè)計,門上配有石英觀察窗,便于實驗的觀察記錄。同時設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。頂蓋上裝有一套擋板,可通過轉(zhuǎn)動擋板切換兩支靶,實現(xiàn)多層鍍膜。

本設(shè)備需要配合高真空分子泵組一起使用,用戶可以選擇進口品牌小型分子泵以進一步節(jié)省安裝面積。

同時該型號可選配膜厚儀組件,可實時監(jiān)測膜厚數(shù)據(jù),為實驗工藝提供可靠參數(shù)。

雙靶磁控鍍膜儀參數(shù):

樣品臺

尺寸

100mm

加熱溫度

≤500℃

旋轉(zhuǎn)速度

1-20r/min

控溫精度

±1℃

磁控濺射頭

數(shù)量

2英寸 x2

冷卻方式

水冷

真空腔體

腔體尺寸

φ210mm X 260mm

觀察窗口

φ40mm

腔體材料

不銹鋼

開啟方式

前開門式

電源配置

直流電源數(shù)量

1臺

輸出功率

≤300W

輸出電壓

≤600V

響應時間

<5ms

水冷系統(tǒng)

水箱容積

9L

流量

10L/min

膜厚儀

測量精度

0.1埃米

冷卻方式

水冷

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

4kw

分子泵組

前級泵

旋片泵

抽速

1.1L/s

次級泵

渦輪分子泵(國產(chǎn))

抽速

600L/s

抽氣口

KF40

出氣口

KF16




















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