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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)單介紹：雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備

詳細(xì)介紹

詳情介紹：

本設(shè)備為雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

本套配置采用高真空不銹鋼腔體，前開(kāi)門式設(shè)計(jì)，門上配有石英觀察窗，便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái)，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。頂蓋上裝有一套擋板，可通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)擋板切換兩支靶，實(shí)現(xiàn)多層鍍膜。

本設(shè)備需要配合高真空分子泵組一起使用，用戶可以選擇進(jìn)口品牌小型分子泵以進(jìn)一步節(jié)省安裝面積。

同時(shí)該型號(hào)可選配膜厚儀組件，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)膜厚數(shù)據(jù)，為實(shí)驗(yàn)工藝提供可靠參數(shù)。

雙靶磁控鍍膜儀參數(shù)：

樣品臺(tái)	尺寸	100mm	加熱溫度	≤500℃
樣品臺(tái)	旋轉(zhuǎn)速度	1-20r/min	控溫精度	±1℃
磁控濺射頭	數(shù)量	2英寸 x2	冷卻方式	水冷
真空腔體	腔體尺寸	φ210mm X 260mm	觀察窗口	φ40mm
真空腔體	腔體材料	不銹鋼	開(kāi)啟方式	前開(kāi)門式
電源配置	直流電源數(shù)量	1臺(tái)	輸出功率	≤300W
電源配置	輸出電壓	≤600V	響應(yīng)時(shí)間	＜5ms
水冷系統(tǒng)	水箱容積	9L	流量	10L/min
膜厚儀	測(cè)量精度	0.1埃米	冷卻方式	水冷
其他	供電電壓	AC220V,50Hz	整機(jī)功率	4kw
分子泵組	前級(jí)泵	旋片泵	抽速	1.1L/s
	次級(jí)泵	渦輪分子泵（國(guó)產(chǎn)）	抽速	600L/s
	抽氣口	KF40	出氣口	KF16