詳細(xì)介紹
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過(guò)小型化設(shè)計(jì),將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別,大大減少了安裝場(chǎng)地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源,能夠用于濺射金屬材料,具有速度快溫升低等特點(diǎn)。
單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
桌面型單靶磁控鍍膜儀 樣品臺(tái) 尺寸 φ100mm 加熱 *高500℃ 轉(zhuǎn)速 0-20可調(diào) 磁控濺射靶 數(shù)量 2" x1 真空腔體 腔體尺寸 φ180mm X 215mm 觀察窗口 全向透明 腔體材料 高純石英 開(kāi)啟方式 上蓋拆卸式 真空系統(tǒng) 機(jī)械泵 旋片泵 分子泵 渦輪分子泵 真空測(cè)量 電阻規(guī)+電離規(guī) 抽氣接口 KF16 抽氣接口 KF40 排氣接口 KF16 極限真空 1.0E-4Pa 供電電源 AC 220V 50/60Hz 抽氣速率 機(jī)械泵1.1L/s 分子泵600L/s 電源配置 數(shù)量 直流電源 x1 *大輸出功率 直流電源150W 其他 供電電壓 AC220V,50Hz 整機(jī)功率 2kW 整機(jī)尺寸 550mm X 350mm X400mm
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