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詳細(xì)介紹
詳情介紹：
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點(diǎn)。真空腔體整體采用下置靶設(shè)計(jì)，濺射效果好，雜質(zhì)污染少，能*大限度的保護(hù)樣品。
桌面型靶下置型磁控鍍膜技術(shù)參數(shù)：
| CY-MSP180S-DC-GU | ||||
| 樣品臺(tái) | 尺寸 | φ100mm | 加熱 | *高500℃ |
| 轉(zhuǎn)速 | 0-20可調(diào) | 安裝方式 | 上置于腔體上蓋，樣品安裝為夾持式 | |
| 磁控濺射靶 | 數(shù)量 | 2" x1 下置安裝與腔體下法蘭 |
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| 真空腔體 | 腔體尺寸 | φ180mm X 215mm | 觀察窗口 | 前置式 φ60mm |
| 腔體材料 | SS304 | 開啟方式 | 上頂開式 | |
| 真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵 | 旋片泵 | 抽氣接口 | KF16 |
| 分子泵 | 渦輪分子泵 | 抽氣接口 | KF40 | |
| 真空測量 | 電阻規(guī)+電離規(guī) | 排氣接口 | KF16 | |
| 極限真空 | 1.0E-4Pa | 供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
| 抽氣速率 | 機(jī)械泵1.1L/s 分子泵60L/s | |||
| 電源配置 | 數(shù)量 | 直流電源 x1 | *大輸出功率 | 直流電源300W |
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其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 整機(jī)尺寸 | 550mm X 350mm X400mm |
| 整機(jī)功率 | 2kW |
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