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桌面型雙靶磁控鍍膜儀

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  • 型號 CY-MSP210S-RFD
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 其他
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更新時間:2020-12-31 21:26:41瀏覽次數(shù):486

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產(chǎn)品簡介

簡單介紹: CY-MSP210S-RFD桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計,在保留高真空不銹鋼腔體的同時,精簡了其他機構(gòu),將設(shè)備外形限制在了桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源一個射頻電源,直流靶可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射,射頻電源可用于各種非金屬和金屬氧化物等的濺射。設(shè)備真空系統(tǒng)采用全進口真空泵,抽氣速......

詳細介紹

詳情介紹:

桌面型雙靶磁控鍍膜儀

樣品臺

尺寸

φ150mm

加熱

*高500℃

轉(zhuǎn)速

0-20可調(diào)

 

 

磁控濺射靶

數(shù)量

2" x2  雙靶共用一擋板

 

 

真空腔體

腔體尺寸

φ210mm X 230mm 

觀察窗口

φ40mm

腔體材料

SS304不銹鋼

開啟方式

前開門式

真空系統(tǒng)

機械泵

進口無油隔膜泵

抽氣接口

KF16

分子泵

進口分子泵

抽氣接口

KF40

真空測量

電阻規(guī)+電離規(guī)

排氣接口

KF16

極限真空

1.0E-3Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

無油泵 0.49L/s 分子泵:40L/S

電源配置

數(shù)量

直流電源 x1 射頻電源x1

*大輸出功率

直流電源500W 射頻電源500W

 

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機尺寸

550mm X 550mm X1100mm

整機功率

2kW

 

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