詳細介紹
桌面型雙靶磁控鍍膜儀 | ||||
樣品臺 | 尺寸 | φ150mm | 加熱 | *高500℃ |
轉(zhuǎn)速 | 0-20可調(diào) |
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磁控濺射靶 | 數(shù)量 | 2" x2 雙靶共用一擋板 |
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真空腔體 | 腔體尺寸 | φ210mm X 230mm | 觀察窗口 | φ40mm |
腔體材料 | SS304不銹鋼 | 開啟方式 | 前開門式 | |
真空系統(tǒng) | 機械泵 | 進口無油隔膜泵 | 抽氣接口 | KF16 |
分子泵 | 進口分子泵 | 抽氣接口 | KF40 | |
真空測量 | 電阻規(guī)+電離規(guī) | 排氣接口 | KF16 | |
極限真空 | 1.0E-3Pa | 供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 無油泵 0.49L/s 分子泵:40L/S | |||
電源配置 | 數(shù)量 | 直流電源 x1 射頻電源x1 | *大輸出功率 | 直流電源500W 射頻電源500W |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz | 整機尺寸 | 550mm X 550mm X1100mm |
整機功率 | 2kW |
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