詳細介紹
桌面型單靶磁控鍍膜儀適用范圍:
該設(shè)備可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,經(jīng)過小型化設(shè)計,高度集成,體積小巧,可以放置于桌面上使用,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。
單靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
往復(fù)樣品臺 尺寸 50*100mm 往復(fù)速度 0~50mm/s 磁控靶槍 靶材平面 圓形平面靶 濺射真空 10Pa~0.2Pa 靶材直徑 2 英寸 靶材厚度 建議2~5mm 靶頭溫度 ≦65℃ 真空腔體 腔體尺寸 約為Φ180mm × H 215mm 腔體材料 高純石英 觀察窗口 全向透明 開啟方式 頂蓋拆卸式 電源 直流電源功率 *大150W 數(shù)量 1 分子泵系統(tǒng) 前級泵 旋片泵 VRD-4 抽速 1.1L/S 極限真空 5*10-1Pa 分子泵 分子泵抽速 600L/S 額定轉(zhuǎn)速 24000rpm 極限真空 5*10-5Pa 振動值 ≦0.1um 啟動時間 ≦4.5min 停機時間 <7min 冷卻方式 水冷+風冷 水冷機 冷卻水溫度 ≦37℃ 冷卻水流速 10L/min 供電電壓 AC220V 50Hz
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