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往復(fù)樣品臺單靶磁控鍍膜儀

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更新時間:2020-12-31 21:16:45瀏覽次數(shù):560

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聯(lián)系方式:汪紀彬查看聯(lián)系方式

產(chǎn)品簡介

簡單介紹: 桌面型單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為150W直流電源,可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口,可以通入保護性氣體,若客戶需要通入混合氣體,可以聯(lián)系工作人員自行配置高精度質(zhì)量流量計以滿足實......

詳細介紹

詳情介紹:


桌面型單靶磁控鍍膜儀適用范圍:

該設(shè)備可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,經(jīng)過小型化設(shè)計,高度集成,體積小巧,可以放置于桌面上使用,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。 

單靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):


往復(fù)樣品臺

尺寸

50*100mm

往復(fù)速度

0~50mm/s

磁控靶槍

靶材平面

圓形平面靶

濺射真空

10Pa~0.2Pa

靶材直徑

2 英寸

靶材厚度

建議2~5mm

靶頭溫度

≦65℃

真空腔體

腔體尺寸

約為Φ180mm × H 215mm

腔體材料

高純石英

觀察窗口

全向透明

開啟方式

頂蓋拆卸式

電源

直流電源功率

*大150W

數(shù)量

1

分子泵系統(tǒng)

前級泵

旋片泵

VRD-4

 

抽速

1.1L/S

 

極限真空

5*10-1Pa

分子泵

分子泵抽速

600L/S

 

額定轉(zhuǎn)速

24000rpm

 

極限真空

5*10-5Pa

 

振動值

≦0.1um

 

啟動時間

≦4.5min

 

停機時間

<7min

 

冷卻方式

水冷+風冷

水冷機

冷卻水溫度

≦37℃

冷卻水流速

10L/min

供電電壓

AC220V 50Hz


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