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產(chǎn)品簡介

簡單介紹：小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇

詳細(xì)介紹

詳情介紹：

小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇；所配電源為150W直流電源，可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口，可以通入保護(hù)性氣體，若客戶需要通入混合氣體，可以聯(lián)系工作人員自行配置高精度質(zhì)量流量計(jì)以滿足實(shí)驗(yàn)需要。儀器標(biāo)配的渦輪分子泵組，極限真空可達(dá)1.0E-5Pa，同時(shí)另有其他類型的分子泵可供選購。

小型單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：

該設(shè)備可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，高度集成，體積小巧，可以放置于桌面上使用，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備。

小型單靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

小型單靶磁控濺射鍍膜儀
樣品臺(tái)	尺寸	φ138mm	控溫精度	±1℃
樣品臺(tái)	加熱溫度	*高500℃	轉(zhuǎn)速	1-20rpm可調(diào)
磁控濺射頭	數(shù)量	2" x1 （1",2"可選）	水冷機(jī)規(guī)格	10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)
磁控濺射頭	冷卻方式	水冷
真空腔體	腔體尺寸	φ180mm × 215mm	觀察窗口	全向透明
真空腔體	腔體材料	高純石英	開啟方式	頂蓋拆卸式
真空系統(tǒng)	產(chǎn)品型號(hào)	CY-GZK103-A	抽氣接口	KF40
	分子泵	CY-600	排氣接口	KF16
	前極泵	旋片泵	真空測量	復(fù)合真空計(jì)
	極限真空	1.0E-5Pa	供電電源	AC;220V 50/60Hz
	抽氣速率	分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達(dá)： 1.0E-3Pa
電源配置	數(shù)量	直流電源 ×1	*大輸出功率	150W
其他	供電電壓	AC220V,50Hz	整機(jī)尺寸	500mm × 350mm × 400mm
	整機(jī)功率	1.7KW（真空泵組1.5KW+本機(jī)0.2KW）	整機(jī)重量	30kg

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小型單靶磁控濺射鍍膜儀

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小型單靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：

小型單靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

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