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雙靶磁控濺射鍍膜儀

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  • 型號(hào) CY-600-2HD
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  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 所在地

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更新時(shí)間:2020-12-31 12:40:13瀏覽次數(shù):411

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)單介紹: 雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。與同類(lèi)設(shè)備相比,這款雙靶磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛,切體積小便于操作,是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。

詳細(xì)介紹

詳情介紹:

產(chǎn)品特點(diǎn)

1:此款鍍膜儀配置有兩個(gè)靶槍?zhuān)阂粋€(gè)靶槍配套的是射頻電源,用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜;一個(gè)靶槍配套的是直流電源,用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜

2:該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜,應(yīng)用非常廣泛。

3:該鍍膜儀體積較小,且配備有觸摸屏控制面板,操作方便。

產(chǎn)品參數(shù)

電源

220V 50Hz

功率

2000W(含真空泵)

極限真空度

10-6torr

工作溫度

室溫~500℃

靶槍數(shù)量

2個(gè)(可選配其他數(shù)量)

靶槍冷卻方式

水冷

靶材尺寸

Φ50mm,厚度0.1~5mm

直流濺射功率

500W

射頻濺射功率

300W/500W

樣品臺(tái)尺寸

140mm

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

1~20rpm可調(diào)

保護(hù)氣體

Ar、N2等惰性氣體

進(jìn)氣氣路

2路氣路,質(zhì)子流量計(jì)控制,每個(gè)流量為100sccm

爐體尺寸

500×560×660mm

整機(jī)尺寸

1300×660×1200mm

重量

160kg

可選配件

Au、In、Ag、Pt等

配件

直流電源控制系統(tǒng)1件;射頻電源控制系統(tǒng)1件;

膜厚儀1套;分子泵1臺(tái);冷水機(jī)1臺(tái);冷卻水管(φ6mm)

靶材(不銹鋼靶、陶瓷靶)

包裝

三合板木質(zhì)包裝

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