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飛納臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī) Phenom ProX
鋰電生產(chǎn)工藝優(yōu)化用金屬異物分析系統(tǒng)
| 產(chǎn)地 | 進(jìn)口 | 產(chǎn)品新舊 | 全新 |
|---|---|---|---|
| 放大倍率 | 350,000 X | 分辨率 | 優(yōu)于 6 nm |
| 加速電壓 | 基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV | 電子槍 | CeB6 燈絲,使用壽命優(yōu)于 3000 小時(shí) |
| 高級(jí)模式 | 4.8 kV - 20.5 kV 連續(xù)可調(diào) | 探測(cè)器 | 背散射探測(cè)器、能譜探測(cè)器 |
| 可選探測(cè)器 | 二次電子探測(cè)器 |
Phenom ProX G7 是飛納推出的臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī),可用于材料成分分析和表面形貌觀察,幫助判斷樣品微區(qū)元素組成。
Phenom ProX G7 電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 350,000 X,分辨率優(yōu)于 6 nm,采用 CeB6 燈絲,并集成掃描電鏡成像與能譜分析能力,適合形貌觀察、微區(qū)元素分析和材料研發(fā)檢測(cè)。
該產(chǎn)品適合高校實(shí)驗(yàn)室、企業(yè)研發(fā)中心、第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)及工業(yè)質(zhì)檢場(chǎng)景。具體配置和價(jià)格根據(jù)樣品類型、探測(cè)器配置、能譜分析需求及服務(wù)方案確定,可通過(guò)平臺(tái)詢價(jià)/留言入口獲取選型建議,并預(yù)約試樣。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1. 臺(tái)式掃描電鏡與能譜分析能力結(jié)合。
2. 電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 350,000 X。
3. 分辨率優(yōu)于 6 nm,適合常規(guī)材料微觀形貌觀察。
4. CeB6 燈絲壽命優(yōu)于 3000 小時(shí)。
5. 支持高/低真空模式。
6. 標(biāo)配背散射探測(cè)器和能譜探測(cè)器,可選配二次電子探測(cè)器。
7. 適合顆粒、異物、缺陷區(qū)域和材料微區(qū)成分分析。
8. 支持選型咨詢,可預(yù)約試樣。
應(yīng)用領(lǐng)域:
可用于材料成分分析、微區(qū)元素分析、材料研發(fā)、質(zhì)量控制、第三方檢測(cè)和高校實(shí)驗(yàn)室。
技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品型號(hào):Phenom ProX G7
產(chǎn)品全稱:ProX 電鏡能譜一體機(jī)
產(chǎn)品類型:臺(tái)式掃描電鏡能譜一體機(jī)
光學(xué)放大:27 - 160 X
電子光學(xué)放大:350,000 X
分辨率:優(yōu)于 6 nm
電子槍:CeB6 燈絲,使用壽命優(yōu)于 3000 小時(shí)
光學(xué)導(dǎo)航相機(jī):彩色
加速電壓:基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV
高級(jí)模式:4.8 kV - 20.5 kV 連續(xù)可調(diào)
真空模式:高 / 低真空
探測(cè)器:背散射探測(cè)器、能譜探測(cè)器
可選探測(cè)器:二次電子探測(cè)器
常見(jiàn)問(wèn)題:
1. 這款設(shè)備適合做什么分析?適合材料形貌觀察、微區(qū)元素分析、顆粒異物分析、失效分析和研發(fā)質(zhì)檢。
2. 是否可以做元素分析?可以。該產(chǎn)品為電鏡能譜一體機(jī),可用于顆粒、異物或局部區(qū)域的元素分析。
3. 價(jià)格是多少??jī)r(jià)格根據(jù)配置、探測(cè)器選項(xiàng)和應(yīng)用需求確定,可通過(guò)平臺(tái)詢價(jià)入口獲取選型建議,并預(yù)約試樣。
如需了解 Phenom ProX G7 在材料成分分析中的配置方案、應(yīng)用資料或報(bào)價(jià)信息,可通過(guò)平臺(tái)詢價(jià)/留言入口提交樣品類型與測(cè)試需求,獲取選型建議,并預(yù)約試樣。
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