高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過的設(shè)計優(yōu)化，實現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。

◇ 節(jié)省空間

標準的設(shè)備占地面積為4.9m（W）×3.7m（D）×2.6m（H），比以往機型占用空間更小，外形更加緊湊美觀。

◇ 低功耗

正常工作時的功耗約為3kVA，僅需以往機型耗電量的1/3。

◇ 高產(chǎn)能

具備高分辨率和高速兩種刻寫模式，非常適用于超微細加工以及批量生產(chǎn)。該設(shè)備減少了刻寫過程中的無謂耗時，并將掃描頻率提升至業(yè)界最水準的125MHz (以往機型的1.25～2.5倍)，使其具備更高的生產(chǎn)能力。

◇ 機型

JBX-8100FS系列設(shè)有G1（基本版）和G2（全配版）兩種機型。G1機型裝機后也可進行升級，使其支持更高的應(yīng)用需求。

◇ 新功能

安裝光學顯微鏡（選配）后，在避免光刻膠感光的的同時可對材料上的圖形進行確認。設(shè)備還配備了信號塔（標配），實現(xiàn)了視覺范圍內(nèi)的系統(tǒng)運行狀況監(jiān)控。

◇ 激光定位分辨率

采用分辨率為0.6nm的激光干涉儀，對樣品臺位置進行高精度的量測控制。

◇ 系統(tǒng)控制

配備了Linux®系統(tǒng)，圖形用戶界面使操作更加簡單，便于初學者使用。數(shù)據(jù)準備程序支持Linux®和Windows®

備注：
Linux® 為Linus Torval在日本及其它國家的注冊商標或商標。
Windows為美國微軟公司在美國及其它國家的注冊商標或商標。

主要技術(shù)指標