JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為（計算值）2.1nm的電子束，簡便地描畫出線寬在8nm以下（實際可達(dá)5nm）的圖形。

此外，該光刻系統(tǒng)還實現(xiàn)了9nm以下的場拼接精度和套刻精度，性能比。

利用最細(xì)電子束束斑（實測值直徑≦2.9nm）可以描畫8nm以下(實際可達(dá)5nm)極為精細(xì)的圖形。本公司獨特的ＤＦ/DS系統(tǒng)能對電子束偏轉(zhuǎn)產(chǎn)生的畸變進(jìn)行校正，具有球差和象散自動補償功能，可在場邊角、場邊界處進(jìn)行高精度地描畫。

該系統(tǒng)采用了19位DAC和樣品臺控制精度為0.6nm的激光干渉儀，實現(xiàn)了業(yè)界水準(zhǔn)的位置精度、拼接、套刻精度（±9nm）?！】捎糜谖恢镁纫蠛芨叩墓庾悠骷⑼ㄐ旁O(shè)備等領(lǐng)域的研究和開發(fā)。

本公司獨自的自動校正功能(自動補償功能)，實現(xiàn)了可信賴的長時間穩(wěn)定地描畫。自動補償可以根據(jù)時間（任意的）、場和圖形進(jìn)行分別設(shè)定，非常適合于周末及休假等無人值守等情況下的長時間描畫。

掃描速度高達(dá)50MHz，再加上地抑制了機器的準(zhǔn)備操作時間，因此縮短了描畫時間，到描畫開始為止的作業(yè)非常簡單，聚焦也能夠自動進(jìn)行，因而能提高總產(chǎn)出量。

使用自動裝載系統(tǒng)（選配），最多可以連續(xù)描畫10個樣品架。（例：可連續(xù)描畫10張6英寸的晶圓片或者40張2英寸的晶圓片等?！B續(xù)描畫時，需要和材料數(shù)相應(yīng)的樣品架。）目前在日本國內(nèi)外已有這樣的生產(chǎn)線。

利用微間距控制程序（場尺寸精調(diào)程序），可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。