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制藥網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>儀器儀表>光學(xué)分析儀器>其它光學(xué)分析儀器>1 BloomRay薄膜表面缺陷照明裝置

  • BloomRay薄膜表面缺陷照明裝置
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廠商性質(zhì)

經(jīng)銷商

型號

1

訪問次數(shù)

2

產(chǎn)地

廣東深圳市

更新時間

2026/9/28 17:04:36

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產(chǎn)品簡介

BloomRay薄膜表面缺陷照明裝置產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)地 進(jìn)口 產(chǎn)品新舊 全新
日本株式會社Particle Labs BloomRay薄膜表面缺陷照明裝置，是一款專為光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體晶圓 高精度光學(xué)元件設(shè)計的高對比度表面缺陷檢測照明系統(tǒng)。該裝置采用超指向性光學(xué)設(shè)計，通過精密透鏡陣列與準(zhǔn)直光學(xué)系統(tǒng)，發(fā)射出極低發(fā)散角的平行光束，精準(zhǔn)控制光線入射角度，將薄膜表面的微小劃痕、異物和微塵轉(zhuǎn)化為的光學(xué)對比度

BloomRay薄膜表面缺陷照明裝置詳細(xì)信息

日本株式會社Particle Labs BloomRay薄膜表面缺陷照明裝置 【產(chǎn)品概述】

BloomRay 超指向性薄膜檢查照明裝置由日本株式會社 Particle Labs 研發(fā)制造。該設(shè)備突破了傳統(tǒng)照明在大面積薄膜檢測中容易產(chǎn)生雜散光干擾的瓶頸，采用超指向性光場調(diào)控技術(shù)，通過內(nèi)部精密的透鏡陣列與準(zhǔn)直光學(xué)系統(tǒng)，發(fā)射出具有指向性、極低發(fā)散角的平行光束。這種定向光源能夠根據(jù)薄膜的物理特性（如折射率、透光率）進(jìn)行特定的角度設(shè)定，缺陷邊緣的衍射和散射信號，配合高分辨率工業(yè)相機(jī)，實現(xiàn)納米級至微米級缺陷的高反差成像。

日本株式會社Particle Labs BloomRay薄膜表面缺陷照明裝置 【核心性能與優(yōu)勢】

  1. 超指向性光場調(diào)控技術(shù)：傳統(tǒng)照明在大面積薄膜檢測中容易產(chǎn)生雜散光干擾。BloomRay 裝置通過內(nèi)部精密的透鏡陣列與準(zhǔn)直光學(xué)系統(tǒng)，發(fā)射出具有指向性、極低發(fā)散角的平行光束。這種定向光源能夠根據(jù)薄膜的物理特性進(jìn)行特定的角度設(shè)定，缺陷邊緣的衍射和散射信號
  2. 微塵與劃痕的高反差成像：利用全反射、漫反射與定向照明的結(jié)合，當(dāng)光線以特定角度照射到透明薄膜表面時，平整區(qū)域會透光或反光，而極其微小的劃痕（Scratch）或附著物（Particle）會瞬間截斷光路。配合高分辨率工業(yè)相機(jī)，系統(tǒng)能實現(xiàn)納米級至微米級缺陷的"黑底亮斑"或"亮底黑斑"成像。
  3. 均勻大面積照明陣列：在卷對卷（R2R）或大面積玻璃基板的檢測中，邊緣光衰減是痛點。BloomRay 采用多通道均勻化光路設(shè)計，即使在大面積檢測視場下，也能保持中心與邊緣照度的一致性與均勻性，確保全幅面的量化評估標(biāo)準(zhǔn)統(tǒng)一。
  4. 低熱輻射與無損檢測：針對光刻膠、聚合物薄膜等對溫度極其敏感的材料，該照明裝置采用了低熱量、高穩(wěn)定性的光源，并配合高效的主動散熱設(shè)計，確保在長時間高亮度的檢測過程中，不會因熱膨脹導(dǎo)致薄膜發(fā)生物理形變。

【技術(shù)參數(shù)表】

表格
下載為表格
導(dǎo)出為圖片
參數(shù)項目技術(shù)規(guī)格
產(chǎn)品型號BloomRay
品牌Particle Labs（日本株式會社）
照明方式超指向性平行光束照明
光學(xué)系統(tǒng)精密透鏡陣列 + 準(zhǔn)直光學(xué)系統(tǒng)
光源類型低熱輻射高穩(wěn)定性光源
光束特性極低發(fā)散角、高指向性
均勻性大面積視場中心與邊緣照度一致
散熱方式高效主動散熱設(shè)計
工作電源AC 100V - 240V，50/60Hz
適用工件光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體晶圓、光罩、光學(xué)玻璃等透明/半透明材料

【典型應(yīng)用領(lǐng)域】

  • 顯示面板與光學(xué)薄膜：用于偏光片（Polarizer）、擴(kuò)散膜（Diffuser）、增亮膜（BEF）以及柔性O(shè)LED蓋板玻璃的表面微塵、臟污及壓傷檢測。

  • 半導(dǎo)體與精密光學(xué)元件：用于晶圓（Wafer）、光刻掩模版（Mask/Reticle）、濾光片表面的微小顆粒（Particle）和納米級劃痕（Scratch）的光學(xué)篩查。

  • 新能源與功能性薄膜：檢測鋰電池隔膜、太陽能電池背板、ITO導(dǎo)電薄膜在涂布和制程中的針孔、氣泡、異物及涂覆不均等缺陷。



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