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詳細摘要： OCTOPLUS 500 MBE系統(tǒng)是為了在6英寸襯底上生長高質(zhì)量的III/V族或者II-VI族異質(zhì)結(jié)構(gòu)材料而研發(fā)專業(yè)分子束外延系統(tǒng)。樣品臺選用熱解石墨加熱或者...

詳細摘要： OCTOPLUS 400 是一款通用型MBE系統(tǒng)，非常適合于III/V族， II/VI族，及其他復合半導體材料應用。兼容2-4英寸標準晶片。豎直分割式腔體設(shè)計，...

詳細摘要： 美國Neocera PLD 脈沖激光沉積系統(tǒng) P180 , 一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法. PED 脈沖電子束沉積系統(tǒng) PED-...

詳細摘要： 日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000，采用磁控型電極，限度地減輕對樣品的損壞。

詳細摘要： 英國HHV桌上型濺射鍍膜儀BT150和BT300，新系列小型桌上系統(tǒng)，觸摸屏顯示控制，適合于SEM及TEM電鏡樣品制備及常規(guī)科研的全功能系統(tǒng)。

詳細摘要： 法國Plassys微波等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) SSDR 150，專門用于合成 CVD 金剛石薄膜，能夠制備高純單晶(需高純氣源）、厚單晶、大單晶、多晶薄膜、光...

詳細摘要： 英國Oxford Vacuum 電子束蒸發(fā)鍍膜機Vapour Station 4 微納器件樣品制備系統(tǒng)，該電子束蒸發(fā)鍍膜儀是一款微納器件樣品制備系統(tǒng)，為有機無機...

詳細摘要： 荷蘭TSST脈沖激光沉積/激光分子束外延系統(tǒng)，在真空環(huán)境下利用脈沖激光對靶材表面進行轟擊，利用激光產(chǎn)生的局域熱量將靶材物質(zhì)轟擊出來，再沉積在不同的襯底上，從而形...

詳細摘要： 英國Cressington/US TedPella 208HR 高分辨離子濺射儀-適用于場發(fā)射掃描電鏡

詳細摘要： TF500/TF600 適合*研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)，具有高級工藝能力。系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個型號的系統(tǒng)都可以安裝...

詳細摘要： 英國HHV Auto306 科研工作者和電子顯微學家的多功能鍍膜設(shè)備,可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標準化工藝附件，提供一系列實驗技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實驗室的需要。...

詳細摘要： 英國HHV Auto500 GB 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)

詳細摘要： 英國 Cressington （US market: Ted Pella） 108Auto 全自動離子濺射鍍膜儀 ， 是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌上型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于...

詳細摘要： 德國Sentech PE-ALD 等離子體增強--原子層沉積，SENTECH基于多年研發(fā)制造PECVD和ICPECVD的經(jīng)驗，包括專有的PTSA技術(shù)，推出臺PE...

詳細摘要： PICOSUN P-1000 Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機

詳細摘要： PICOSUN P-300 Advanced ALD 高級型原子層沉積機

詳細摘要： P-300B Advanced ALD 高級原子層沉積機，基片尺寸和類型 300mm晶圓10片/批次（標準間距）

詳細摘要： PICOSUN P-300S Pro ALD 原子層沉積機，

詳細摘要： PICOSUN P-300F ，P-300BV Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機，襯底尺寸和類型 200 mm 晶圓 25 + 2片/批次 (標準間距)。

詳細摘要： PICOSUN P-200S Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機 ，由兩臺PICOSUN P-200S ALD設(shè)備組成，帶等離子體源PICOPLASMA。