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詳細(xì)摘要： 芬蘭PICOSUN R-200高級(jí)型 原子層沉積機(jī)

詳細(xì)摘要： MEB550SL3法國(guó)Plassys超高真空多腔體電子束鍍膜機(jī)，電子束蒸鍍儀是納米器件制備中的儀器，用于蒸鍍各種高純金屬薄膜，如Ti, Au, Ni, Cr, ...

詳細(xì)摘要： 德 Iplas 微波等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)，通過等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率，降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶形態(tài)好的高質(zhì)量硬質(zhì)薄膜和晶體。

詳細(xì)摘要： DV-502B 高真空蒸發(fā)器平臺(tái)，Denton 熱蒸發(fā)濺射儀，在大氣和高真空之間快速循環(huán)。

詳細(xì)摘要： DENTON 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺(tái)，電子束蒸發(fā)、電阻蒸發(fā)、濺射、離子鍍和離子輔助沉積。

詳細(xì)摘要： Plasmalab System100 英國(guó)Oxford 等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積，基本溫度低，沉積速率快，成模質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂。

詳細(xì)摘要： 英國(guó)Oxford OpAL 開放式樣品載入原子沉積（ALD）設(shè)備，提供了專業(yè)的熱ALD設(shè)備，可以簡(jiǎn)單明了的升級(jí)使用等離子體，使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和...

詳細(xì)摘要： Oxford System 100 等離子刻蝕與沉積設(shè)備，是一個(gè)靈活和功能*的等離子體刻蝕和淀積工藝設(shè)備。 采用真空進(jìn)樣室進(jìn)樣可進(jìn)行快速的晶片更換、采用多種工藝...

詳細(xì)摘要： Auto500是一套多功能的真空鍍膜系統(tǒng)平臺(tái)，主要用于科學(xué)研究、技術(shù)開發(fā)或試生產(chǎn)。其真空腔室采用了前開門的箱式設(shè)計(jì)，可以容納大尺寸樣品。通過可選擇的設(shè)備配置能分...

詳細(xì)摘要： 芬蘭 PICOSUN R-200標(biāo)準(zhǔn)型原子層沉積機(jī)ALDPICOSUN R系列設(shè)備提供高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術(shù)，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性，包括挑戰(zhàn)性...