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醫(yī)療器械涂層觀察用飛納掃描電鏡

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司
  • 品       牌Phenom 飛納電鏡
  • 型       號Phenom XL G3
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2026/7/21 16:06:57
  • 訪問次數(shù)91
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復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司,2012 年創(chuàng)立于上海,為高校,企業(yè)和研究所提供臺式掃描電子顯微鏡,及與臺式掃描電鏡相關(guān)的技術(shù)支持和測試服務(wù)。復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司成立以來,一直專注顯微技術(shù),致力于實現(xiàn)掃描電鏡平民化。飛納電鏡——復(fù)納科學(xué)儀器(上海)有限公司為用戶提供從掃描電鏡基礎(chǔ)理論到 Level 5 應(yīng)用工程師的進(jìn)階培訓(xùn),在上海、北京、廣州、成都設(shè)立了測試中心和售后服務(wù)中心,目前飛納電鏡在中國已經(jīng)擁有超過 2000 名用戶。


2017 年起,復(fù)納與荷蘭 Sioux 集團(tuán)(ASML 光刻機研發(fā)供應(yīng)商)合作開發(fā)基于分析儀器的數(shù)字化應(yīng)用解決方案;2018 年,復(fù)納引入并組建以 VSParticle 納米粒子發(fā)生器、ForgeNano 原子層沉積系統(tǒng)(美國)為主要產(chǎn)品的納米部門。復(fù)納又陸續(xù)引進(jìn)海外優(yōu)質(zhì)高科技設(shè)備:Technoorg Linda 離子研磨儀、DENSsolutions 原位透射樣品桿、NEOSCAN 臺式顯微 CT 到中國,旨在提高分析結(jié)果準(zhǔn)確性,提升儀器使用效率,節(jié)省人力成本。






掃描電鏡,臺式掃描電鏡,制樣設(shè)備CP離子研磨儀,原位樣品桿,可視化顆粒檢測,高分辨臺式顯微 CT,粉末原子層沉積系統(tǒng),納米氣溶膠沉積系統(tǒng)
產(chǎn)地 進(jìn)口 產(chǎn)品新舊 全新
放大倍率 200,000 X 分辨率 優(yōu)于 8 nm
加速電壓 基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV 電子槍 CeB6 燈絲,使用壽命優(yōu)于 3000 小時
最大樣品尺寸 100 x 100 mm 加速電壓 基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV
高級模式 4.8 kV - 20.5 kV 連續(xù)可調(diào) 探測器 背散射探測器
可選探測器 二次電子探測器、能譜探測器
Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡,可用于醫(yī)療器械涂層觀察,幫助分析涂層表面、截面和界面形貌。
醫(yī)療器械涂層觀察用飛納掃描電鏡 產(chǎn)品信息

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡,可用于醫(yī)療器械涂層觀察,幫助分析涂層表面、截面和界面形貌。

Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒,可對最大 100 x 100 mm 的樣品進(jìn)行分析,適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設(shè)備采用 CeB6 燈絲,電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 200,000 X,分辨率優(yōu)于 8 nm,適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣品測試等應(yīng)用。

該產(chǎn)品具備大倉室樣品臺、低/中/高三種真空模式、背散射探測器,并可根據(jù)需求選配二次電子探測器和能譜探測器。具體配置和價格根據(jù)型號、功能及應(yīng)用需求確定,可通過平臺詢價/留言入口獲取選型建議,并預(yù)約試樣。

 

產(chǎn)品特點:

1. 大倉室設(shè)計,可分析最大 100 x 100 mm 樣品。

2. 平均成像時間約 40 秒,適合多樣品觀察和日常檢測。

3. 電子光學(xué)放大倍數(shù)可達(dá) 200,000 X,分辨率優(yōu)于 8 nm。

4. 采用 CeB6 燈絲,使用壽命優(yōu)于 3000 小時。

5. 支持低、中、高三種真空模式,適合多類材料樣品。

6. 標(biāo)配背散射探測器,可選配二次電子探測器和能譜探測器。

7. 臺式設(shè)計,適合實驗室日常部署與使用。

8. 支持選型咨詢,可預(yù)約試樣。

 

應(yīng)用領(lǐng)域:

可用于醫(yī)療器械涂層觀察、植入物表面分析、醫(yī)用材料研發(fā)、涂層缺陷觀察和質(zhì)量控制。

 

技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品型號:Phenom XL G3

產(chǎn)品全稱:XL 大倉室自動化電鏡

產(chǎn)品類型:大倉室臺式掃描電鏡

光學(xué)放大:3 - 19 X

電子光學(xué)放大:200,000 X

分辨率:優(yōu)于 8 nm

電子槍:CeB6 燈絲,使用壽命優(yōu)于 3000 小時

光學(xué)導(dǎo)航相機:彩色

平均成像時間:約 40 秒

最大樣品尺寸:100 x 100 mm

樣品承載:可同時容納 36 個樣品

加速電壓:基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV

高級模式:4.8 kV - 20.5 kV 連續(xù)可調(diào)

真空模式:低 / 中 / 高三種模式

探測器:背散射探測器

可選探測器:二次電子探測器、能譜探測器

 

常見問題:

1. 這款設(shè)備適合哪些樣品?適合較大尺寸樣品、多樣品檢測以及常規(guī)材料形貌觀察。

2. 是否可以做元素分析?設(shè)備可根據(jù)需求選配能譜探測器,用于顆粒、異物或局部區(qū)域的元素分析。

3. 價格是多少?價格根據(jù)設(shè)備配置、探測器選項、應(yīng)用需求和服務(wù)方案確定,可通過平臺詢價入口獲取選型建議,并預(yù)約試樣。

 

如需了解 Phenom XL G3 在醫(yī)療器械涂層觀察中的配置方案、應(yīng)用資料或報價信息,可通過平臺詢價/留言入口提交樣品類型與測試需求,獲取選型建議,并預(yù)約試樣。


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