Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室臺式掃描電鏡，可用于半導(dǎo)體封裝觀察，幫助分析封裝結(jié)構(gòu)、表面缺陷和截面形貌。

Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設(shè)備采用 CeB6 燈絲，電子光學(xué)放大倍數(shù)可達 200,000 X，分辨率優(yōu)于 8 nm，適用于日常質(zhì)檢、研發(fā)分析、失效分析和樣品測試等應(yīng)用。

該產(chǎn)品具備大倉室樣品臺、低/中/高三種真空模式、背散射探測器，并可根據(jù)需求選配二次電子探測器和能譜探測器。具體配置和價格根據(jù)型號、功能及應(yīng)用需求確定，可通過平臺詢價/留言入口獲取選型建議，并預(yù)約試樣。

產(chǎn)品特點：

1. 大倉室設(shè)計，可分析最大 100 x 100 mm 樣品。

2. 平均成像時間約 40 秒，適合多樣品觀察和日常檢測。

3. 電子光學(xué)放大倍數(shù)可達 200,000 X，分辨率優(yōu)于 8 nm。

4. 采用 CeB6 燈絲，使用壽命優(yōu)于 3000 小時。

5. 支持低、中、高三種真空模式，適合多類材料樣品。

6. 標(biāo)配背散射探測器，可選配二次電子探測器和能譜探測器。

7. 臺式設(shè)計，適合實驗室日常部署與使用。

8. 支持選型咨詢，可預(yù)約試樣。

應(yīng)用領(lǐng)域：

可用于半導(dǎo)體封裝觀察、芯片封裝截面分析、焊點觀察、電子材料檢測和質(zhì)量控制。

技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品型號：Phenom XL G3

產(chǎn)品全稱：XL 大倉室自動化電鏡

產(chǎn)品類型：大倉室臺式掃描電鏡

光學(xué)放大：3 - 19 X

電子光學(xué)放大：200,000 X

分辨率：優(yōu)于 8 nm

電子槍：CeB6 燈絲，使用壽命優(yōu)于 3000 小時

光學(xué)導(dǎo)航相機：彩色

平均成像時間：約 40 秒

最大樣品尺寸：100 x 100 mm

樣品承載：可同時容納 36 個樣品

加速電壓：基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV

高級模式：4.8 kV - 20.5 kV 連續(xù)可調(diào)

真空模式：低 / 中 / 高三種模式

探測器：背散射探測器

可選探測器：二次電子探測器、能譜探測器

常見問題：

1. 這款設(shè)備適合哪些樣品？適合較大尺寸樣品、多樣品檢測以及常規(guī)材料形貌觀察。

2. 是否可以做元素分析？設(shè)備可根據(jù)需求選配能譜探測器，用于顆粒、異物或局部區(qū)域的元素分析。

3. 價格是多少？價格根據(jù)設(shè)備配置、探測器選項、應(yīng)用需求和服務(wù)方案確定，可通過平臺詢價入口獲取選型建議，并預(yù)約試樣。

如需了解 Phenom XL G3 在半導(dǎo)體封裝觀察中的配置方案、應(yīng)用資料或報價信息，可通過平臺詢價/留言入口提交樣品類型與測試需求，獲取選型建議，并預(yù)約試樣。