SC7620離子濺射鍍膜儀

SC7620是一臺結構緊湊且經(jīng)濟的掃描電鏡離子濺射儀。如與可選的鍍碳附件(SC7620CF)結合使用，為理想的掃描電鏡噴金噴碳系統(tǒng)。SC7620耐用且易操作。

SC7620具有直徑100㎜(4″)的玻璃腔室，使用磁控濺射頭及容易更換的圓片靶。濺射頭為易操作的鉸鏈式，并具有電安全互鎖裝置。高壓電纜帶有屏蔽功能，以預防意外損壞。通過氬氣針閥調整真空度，以改變等離子電流。

SC7620具有輝光放電（親水化）工作模式。經(jīng)過空氣輝光放電處理后，碳膜具有親水性和帶負電，因此可以收集TEM截面切片，并易于水懸浮液的擴散。注：對于專用的全自動輝光放電解決方案，請參見GloQube Plus。

儀器特點：

•   易操作

•   磁控離子濺射頭

•   桌上型，緊湊設計

•   快速循環(huán)時間

•   可選碳絲蒸鍍

•   樣品臺高度可調

•   快速換靶（標配為金/鈀合金靶）

•   符合所有新的安全標準：包括機電互鎖，以確保使用鍍碳附件時濺射頭斷電

•   可靠耐用

推薦應用：

•   常規(guī)樣品濺射噴金，常用于鎢燈絲掃描電鏡樣品制備

•   與其它貴金屬比較，銀鍍層容易取下，較適用于博物館和的樣品鍍膜

•   可選噴碳附件，用于EDS/WDS分析

•   通過輝光放電進行親水化處理

對于SEM應用的全自動版本的噴金噴碳儀，請參見Q150R Plus。對于FE-SEM應用所需的超細顆粒鍍膜，建議采用高真空鍍膜儀，請參見Q150T Plus、Q150V Plus或Q150GB，如需大腔室版本的鍍膜系統(tǒng)，請參見：Q300T T Plus、Q300T D Plus、Q300T ES Plus和K975X/K975S。