K1050X射頻等離子清潔刻蝕灰化儀

K1050X射頻等離子處理單元由固態(tài)射頻發(fā)生器結合調(diào)諧電路組成。在等離子處理過程中，“自動調(diào)諧”功能可確保RF功率自動與系統(tǒng)或負載的任何變化進行阻抗匹配。這意味著將腔室內(nèi)的射頻等離子條件保持在狀態(tài)-這很重要，因為它可以加快反應時間，提高結果的可重復性，并在RF周期內(nèi)保護電源。具有同時兩種處理氣體流量針閥監(jiān)控，全部或部分通氣口控制。它的腔室為圓柱形，樣品裝載為抽屜式抽拉系統(tǒng)，方便使用。

K1050X等離子桶式反應器經(jīng)過精心設計，可以承受大量使用-每天24小時處理某些等離子灰化計劃-具有微處理器控制和自動操作功能，并具有耐用性和操作簡便性。各向同性（各個方向）的桶式系統(tǒng)等離子刻蝕或等離子灰化，適用于廣泛的應用。K1050X使用低壓射頻感應產(chǎn)生的氣體放電來以柔和、可控的方式修飾樣品表面或去除樣品材料，與其它方法相比的一個顯著優(yōu)勢是等離子蝕刻和灰化過程是干燥的（不需要濕化學藥品），并且在相對較低的溫度下進行，所產(chǎn)生的“燃燒”產(chǎn)物可通過真空系統(tǒng)方便地在氣流中帶走。

真空系統(tǒng)為旋轉機械泵（K1050X）或可選用膜片泵作為前級真空的渦輪分子泵（K1050XT）。

此系統(tǒng)通常使用氧及氬的混合氣體，氧去除有機物質（碳氫化合物），氬對樣品表面進行刻蝕。K1050X RF等離子桶式反應器設計用于等離子蝕刻，等離子灰化和等離子清潔應用。射頻等離子體可對各種樣品和基板進行低溫修飾。等離子體蝕刻在半導體行業(yè)應用較廣，因為K1050X可以用于使用反應氣體（例如CF 4）去除硅層，以及用于使用氧氣去除光刻膠。

儀器特點：

•   緊湊的臺式系統(tǒng)，節(jié)省空間

•   固態(tài)射頻發(fā)生器及調(diào)諧電路，全自動控制，易操作

•   抽屜式結構，裝/卸樣品方便

•   兩種處理氣體

•   低溫灰化過程

•  在灰化過程結束后自動終止

推薦應用：

•   煤的灰化；有機材料（例如環(huán)氧樹脂，過濾器，食品等）微觀灰化

•   SEM&TEM中有機樣品刻蝕

•   SEM、TEM和SPM樣品或樣品夾Plasma清潔清洗

•   去除光刻膠及電子元件中的包膠，包括外延層的等離子蝕刻

•   塑料品的表面處理，實現(xiàn)從疏水到親水的轉化，改善塑料的油漆和上墨特性

•   石棉試樣制備，人造礦物纖維及石棉檢測

•   鍵合樣品預處理

•   對于需要更清潔真空環(huán)境的等離子蝕刻和等離子清潔應用，請選用K1050XT

當?shù)入x子蝕刻應用涉及使用氧氣作為工藝氣體時，出于安全原因，強烈建議使用Edwards RV3 Fomblinized或類似的合成油旋轉機械泵。當然，在需要避免使用油基旋轉機械泵的地方，也可選擇干式真空泵。注：本產(chǎn)品科研用途。