產(chǎn)品介紹

低溫等離子體表面處理技術(shù)可以應(yīng)用于有機(jī)材料的表面改性, 該技術(shù)能夠有效地改善有機(jī)材料制品部件間的粘合性能。等離子表面處理通常是一個(gè)導(dǎo)致表面分子結(jié)構(gòu)改變或進(jìn)行表面原子置代的等離子體反應(yīng)過程。即使在氧氣或氮?dú)獾炔换顫姷臍夥罩校入x子體處理仍可以在低溫條件下產(chǎn)生高活性的基團(tuán)。在這個(gè)過程中，等離子體還會(huì)發(fā)生能量很高的紫外線，與產(chǎn)生的快離子和電子一起為打斷聚合物結(jié)合鍵和產(chǎn)生表面化學(xué)反應(yīng)提供所需的能量。只有材料表面的幾個(gè)原子層參與了這個(gè)化學(xué)過程，聚合物的本體屬性才能保持變形的可能。選用合適的反應(yīng)氣體和工藝參數(shù)就可以促進(jìn)某種特定的反應(yīng)，形成一種不尋常的聚合物附著物和結(jié)構(gòu)。通?？梢赃x擇反應(yīng)物來使等離子體與基底材料發(fā)生反應(yīng)，生成的是可揮發(fā)性的附著物。這些被處理材料表面的附著物因退吸附而可被真空泵抽走，不必通過進(jìn)一步的清洗或中和就可以實(shí)現(xiàn)對表面的刻蝕。

真空等離子表面處理設(shè)備簡介

TS系列低溫等離子表面處理設(shè)備-低壓(真空)等離子清洗機(jī)由真空腔體及高頻等離子電源、抽真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、自動(dòng)控制系統(tǒng)等部分組成。工作基本原理是在真空狀態(tài)下，等離子作用在控制和定性方法下能夠電離氣體,利用真空泵將工作室進(jìn)行抽真空達(dá)到0.02-0.03mbar?的真空度，再在高頻發(fā)生器作用下，將氣體進(jìn)行電離，形成等離子體（物質(zhì)第四態(tài)）。高頻發(fā)生器提供能量使氣體電離成等離子態(tài)。等離子態(tài)顯著的特點(diǎn)是高均勻性輝光放電，根據(jù)不同氣體發(fā)出從藍(lán)色到深紫色的色彩可見光，材料處理溫度接近室溫。這些高度活躍微粒子和處理的表面發(fā)生作用，得到了表面親水性、拒水性、低摩擦、高度清潔、激活、蝕刻等各種表面改性。

?等離子表面處理設(shè)備產(chǎn)品特點(diǎn)

1.環(huán)保技術(shù)：等離子體作用過程是氣-?固相干式反應(yīng)?,不消耗水資源、無需添加化學(xué)藥劑,對環(huán)境無污染。

2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進(jìn)行處理,如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料都能很好地處理；

3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時(shí)間和較高表面張力。

4.功能強(qiáng)：僅涉及高分子材料淺表面（10?-1000A?），可在保持材料自身特性的同時(shí)，賦予其一種或多種新的功能；

5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運(yùn)行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會(huì)大大低于濕法清洗。

6.全過程可控工藝：所有參數(shù)可由PLC設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄，進(jìn)行質(zhì)量控制。

7.處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復(fù)雜，部件或紡織品，均可處理。

等離子表面處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于

等離子清洗、刻蝕、等離子鍍、等離子涂覆、等離子灰化和表面改性等場合。通過其處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強(qiáng)粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機(jī)污染物、油污或油脂。

通過等離子表面處理設(shè)備處理有機(jī)物、聚合物和復(fù)合材料,發(fā)現(xiàn)可以使材料表面潤濕性、粗糙度、黏結(jié)強(qiáng)度等均發(fā)生較明顯改觀,可以猜想這些分析所得的規(guī)律對樹脂基復(fù)合材料同樣適用,這就為提高樹脂基復(fù)合材料表面黏結(jié)性奠定了基礎(chǔ)。因此,等離子體可以使復(fù)合材料表面表面改性和黏結(jié)性提高,具有很大的發(fā)展、應(yīng)用前景。