產(chǎn)品介紹

工業(yè)型等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)：

高穩(wěn)定性能，可用于大規(guī)模連續(xù)生產(chǎn)；

*的電極結(jié)構(gòu)，確保等離子體的均勻性；

適合各種形狀的產(chǎn)品，通用性高；

自主研發(fā)集成控制系統(tǒng)軟件，操作便捷；

可按照客戶要求定制腔體尺寸和層數(shù)，滿足客戶的使用要求；

等離子體是由Sir William Crookes在1879年發(fā)現(xiàn)的。而等離子體清洗機(jī)應(yīng)用于工業(yè), 源于20世紀(jì)初。并且隨著等離子體物理研究的深入, 其應(yīng)用越來越廣, 目前已在眾多高科技領(lǐng)域中, 居于關(guān)鍵技術(shù)的地位。等離子清洗技術(shù)對(duì)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明影響的, *電子資訊工業(yè), 尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。

等離子體清洗采用氣體作為清洗介質(zhì), 不存在使用液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。等離子體清洗機(jī)工作時(shí)真空清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面, 短時(shí)間的清洗就可以使污染物被*地清洗掉, 同時(shí)污染物被真空泵抽走, 其清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。?

目前已廣泛應(yīng)用的物理化學(xué)清洗方法, 大致可分為兩類:濕法清洗和干法清洗。干法清洗中發(fā)展較快、優(yōu)勢(shì)明顯的是等離子體清洗, 等離子體清洗已逐步在半導(dǎo)體制造、微電子封裝、精密機(jī)械等行業(yè)開始普遍應(yīng)用。濕法清洗要大量使用酸堿等化學(xué)物質(zhì), 而且清洗后產(chǎn)生大量的廢氣、廢液。當(dāng)然濕法清洗目前在清洗工藝中還占據(jù)主導(dǎo)地位。但是從對(duì)環(huán)境的影響、原材料的消耗來看, 干法清洗要明顯優(yōu)于濕法清洗, 更應(yīng)是未來清洗方法的發(fā)展方向。