本儀器是一款小型蒸發(fā)鍍膜儀，蒸發(fā)溫度從200℃到1700℃，采用鎢絲籃作為蒸發(fā)源，蒸發(fā)源外套高純氧化鋁坩堝。樣品臺距離蒸發(fā)源距離可調(diào)。儀器擁有高精度的溫度控制系統(tǒng)，采用循環(huán)加熱方式，能夠穩(wěn)定蒸發(fā)金屬及部分有機物。采用高純石英腔體作真空腔體，鍍膜過程*可見。儀器標配雙極旋片真空泵，能夠快速達到1.0E-1Pa的真空度，可滿足大多數(shù)蒸發(fā)鍍膜實驗所需的真空環(huán)境。本儀器適用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和部分有機材料薄膜，結(jié)構(gòu)緊湊體積小巧，是一款性價比較高的實驗室鍍膜設備。

小型蒸發(fā)鍍膜儀適用范圍：

小型蒸發(fā)鍍膜儀主要用于蒸發(fā)涂覆大多數(shù)金屬和部分有機材料薄膜。

小型蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

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