桌面型雙源蒸發(fā)鍍膜儀

本小型蒸發(fā)鍍膜儀可進(jìn)行真空蒸鍍，在對樣品進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜的過程中，樣品臺可進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，以獲得更均勻的薄膜。鍍膜電流*大可達(dá)60A，本型號的小型蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用范圍廣，可制備各種金屬薄膜和部分非金屬薄膜，因此被廣泛用于電極的制備和有機物發(fā)光LED的制備。設(shè)備配有兩套蒸發(fā)源，可以通過擋板切換，實現(xiàn)對樣品的多層鍍膜。儀器體積小巧，可有效節(jié)約實驗室空間；操作簡單，對不同材料的適應(yīng)性強，十分適合實驗室選購。

產(chǎn)品特點

1. 樣品臺可以旋轉(zhuǎn)，鍍膜效果能夠更加均勻；

2. 采用鎢絲籃為發(fā)熱源，*高溫度可達(dá)到1700℃；

3. 可向真空腔體中通入惰性氣體，對腔體進(jìn)行清洗，也可通入反應(yīng)氣體，進(jìn)行反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜。

4. 進(jìn)氣口配有針閥，用于調(diào)節(jié)進(jìn)氣流量。

5. 雙蒸法源，可以實現(xiàn)多層鍍膜。

技術(shù)參數(shù)