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南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
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所 在 地南通市
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更新時間：2025-02-13 08:21:49瀏覽次數(shù)：180次
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晶圓清洗機設(shè)備名稱：晶圓清洗機-產(chǎn)品特點：?針對21英寸外徑或15x15英寸的基底?巨聲環(huán)境清洗艙（可配備去離子水
晶圓清洗機 設(shè)備名稱：晶圓清洗機- 產(chǎn)品特點： ? 針對21英寸外徑或15x15英寸的基底 ? 巨聲環(huán)境清洗艙（可配備去離子水, 清洗刷, 熱去離子水, 高壓去離子水, 熱氮氣） ? 化學(xué)注射臂 ? 帶化學(xué)噴射的可變速清洗刷 ? 觸屏用戶界面 ? 手動上下載 ? 安全鎖和報警器 ? 占地尺寸30"D x 26"W 可選配項： ? 化學(xué)試劑傳送單元 ? 白骨化清洗 ? 臭氧發(fā)生器 ? 氫化雙氧水發(fā)生器 ? 高壓雙氧單元 ? 硫酸氫過氧化物 ? 紅外加熱 ? 雙氧水循環(huán)裝置 ? 機械手上下載單元 ? 帶EFEM和SMIF界面的 集群系統(tǒng) ? 晶圓片 ? 藍寶石外延片 ? 晶圓框架上的芯片 ? 顯示面板 ? ITO膜顯示材料 ? 有圖形掩膜和無圖形掩膜 ? 掩膜坯料 ? 薄膜式掩膜 ? 接觸式掩膜 ? SPM剝離 ? 光刻膠涂膜 ? 光刻膠剝離工藝 ? 在晶圓片上注射硫酸和雙氧水的混合液 ? 紅外加熱 ? 刷洗 ? 兆聲雙氧水清洗 ? 熱氮和甩干 ? 帶紅外加熱的NMP滴膠 ? 刷洗 ? 兆聲雙氧水清洗 ? 熱氮和甩干 ? 用刷洗和兆聲清洗去除CMP顆粒 ? 化學(xué)噴射臂 ? 化學(xué)噴射罐 ? 為前面和背面刷洗設(shè)計的特殊托盤 ? 可調(diào)速的PVA清洗刷 ? 可調(diào)的清洗刷/晶圓接觸壓力 ? 刷式化學(xué)噴射 ? 全套清洗（無需更換保護膜） ? 全保護膜 ? 膜式掩膜清洗工藝 1) 掩膜背面清洗后 兆聲雙氧水清洗 刷式清洗 化學(xué)清洗 熱氮甩干 2)熱氮甩干 半導(dǎo)體設(shè)備； ，清洗功能 光刻處理工藝 刻蝕 ? 金屬刻蝕（鋁，銅，鉻，鈦） 白骨化清洗 去膠/剝離工藝 CMP溶液清洗 帶膜/不帶膜式掩膜清洗
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