L79/HCS系統(tǒng)可用于半導(dǎo)體組件性能表征，包括:遷移率，電阻率，載流子濃度和霍爾常數(shù)。

基本型提供不同形狀和溫度條件下所需的樣品支架。選配低溫（液氮）附件結(jié)合高溫爐（溫度可達(dá)800°C）可確保涵蓋所有應(yīng)用領(lǐng)域。永磁體和電磁鐵可提供高達(dá)幾特斯拉強度的固定或者可變磁場。

樣品支架位于密封的真空測量室，測量室設(shè)有進(jìn)出氣體口，可在受控及可變的氣氛下進(jìn)行測量。不同的樣品支架可用于從LN2至800℃進(jìn)行測量。

可選的實際磁場強度可以在高達(dá)150℃的溫度下測量。測量過程中，在滑軌上的兩個磁路可以移動組裝，可將磁通量從正變?yōu)榱闵踔翞樨?fù)，因此樣品無需移動。

• 電阻率和電導(dǎo)率

• 霍爾常數(shù)和遷移率

• 載流子濃度

• 高溫霍爾測量

• 易于操作

• 集成裝置

附件：

• 多種傳感器可用于不同的：

• 樣品量

• 溫度范圍

• 可選永磁鐵或電磁鐵。

• 淬火冷卻附加裝置，可在80K下進(jìn)行測量。

• 控制液氮冷卻的KREG和Dewar。

• 用于自動化測量的電動線性平臺。

• 規(guī)定大氣的氣體進(jìn)出口。