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詳細(xì)摘要： JED-2300T AnalysisStation是以“圖像觀察和分析"為基本理念的TEM/EDS集成系統(tǒng)。在分析數(shù)據(jù)過(guò)程中，自動(dòng)采集電鏡主機(jī)的倍率、加速電壓等...

詳細(xì)摘要： TEM斷層掃描系統(tǒng)采用獨(dú)特算法的軟件，實(shí)現(xiàn)了從獲取連續(xù)傾斜圖像到三維重構(gòu)整個(gè)過(guò)程的自動(dòng)化。

詳細(xì)摘要： JEBG系列大功率電子槍是用來(lái)在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在寬幅塑料及大面積玻璃基板上持續(xù)、高速率地鍍膜，還可應(yīng)用于電子束熔煉，用于高...

詳細(xì)摘要： JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼具高水平的產(chǎn)出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信...

詳細(xì)摘要： 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過(guò)的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡(jiǎn)便的操作，更快的刻寫(xiě)速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。

詳細(xì)摘要： JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動(dòng)調(diào)整直徑為（計(jì)算值）2.1nm的電子束，簡(jiǎn)便地描畫(huà)出線寬在8nm以下（實(shí)際可達(dá)5nm）的圖形。 ...

詳細(xì)摘要： JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和...

詳細(xì)摘要： JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 zei的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精...

詳細(xì)摘要： 用氣體通過(guò)管道定量輸送粉末的送粉器

詳細(xì)摘要： JNM-ECZR系列是高度結(jié)合了數(shù)字技術(shù)和高頻技術(shù)研制的脈沖傅里葉變換核磁共振儀。電路的高度集成化提高了譜儀的可靠性、實(shí)現(xiàn)了機(jī)體的小型化，譜儀對(duì)多通道操作、高功...

詳細(xì)摘要： Delta NMR數(shù)據(jù)處理軟件是ECA和 ECX系列核磁共振系統(tǒng)使用的數(shù)據(jù)處理軟件?？稍赪indows和MacOS平臺(tái)上運(yùn)行，功能豐富，可操作性強(qiáng)，是強(qiáng)有力的N...

詳細(xì)摘要： JES-X3系列電子自旋共振譜儀，經(jīng)過(guò)進(jìn)一步改良低噪音耿氏振蕩器，達(dá)到了的靈敏度。由于人們已經(jīng)認(rèn)識(shí)到樣品中極少量的未成對(duì)電子會(huì)在很大程度上左右著材料的性能，因此...

詳細(xì)摘要： 是濺射、刻蝕、CVD、離子鍍等薄膜制備/加工使用的、用于生成等離子體的13.56MHz高頻電源（RF電源）

詳細(xì)摘要： JEBG系列大功率電子槍是在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在不斷輸送中的寬幅塑料和大面積玻璃基板上高速率地連續(xù)鍍膜，此外在電子束熔煉時(shí)，可...

詳細(xì)摘要： 和偏轉(zhuǎn)型電子槍結(jié)合使用，用作電子束蒸鍍的高壓電源

詳細(xì)摘要： 用于光學(xué)薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源

詳細(xì)摘要： 隨著材料構(gòu)造的微細(xì)化和制造過(guò)程的復(fù)雜化，形貌觀察、元素分析和晶體分析等的評(píng)估技術(shù)也對(duì)分辨率和精度有了更高的要求。為了滿足這些需求，JEOL推出新一代雙束加工觀察...

詳細(xì)摘要： JIB-4000PLUS 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng)配置了高性能的離子鏡筒(單束FIB裝置)。 被加速的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后，能對(duì)樣品表面進(jìn)行SIM觀察 、研磨...

詳細(xì)摘要： 以電子束為熱源使用各種熔解用坩堝，對(duì)高融點(diǎn)活性金屬進(jìn)行熔解/精煉、制備鑄錠的電子束熔煉爐。 適合研究開(kāi)發(fā)及少量生產(chǎn)、省空間設(shè)計(jì)的小型熔煉爐。 可按照用途選擇坩堝...

詳細(xì)摘要： IB-19520CCP在加工過(guò)程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對(duì)樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時(shí)間長(zhǎng)、液氮消耗少的構(gòu)造設(shè)計(jì)。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢...