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詳細摘要： JED-2300T AnalysisStation是以“圖像觀察和分析"為基本理念的TEM/EDS集成系統(tǒng)。在分析數(shù)據(jù)過程中，自動采集電鏡主機的倍率、加速電壓等...

詳細摘要： TEM斷層掃描系統(tǒng)采用獨特算法的軟件，實現(xiàn)了從獲取連續(xù)傾斜圖像到三維重構(gòu)整個過程的自動化。

詳細摘要： JEBG系列大功率電子槍是用來在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在寬幅塑料及大面積玻璃基板上持續(xù)、高速率地鍍膜，還可應用于電子束熔煉，用于高...

詳細摘要： JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼具高水平的產(chǎn)出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信...

詳細摘要： 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過的設計優(yōu)化，實現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。

詳細摘要： JBX-6300FS的電子光學系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為（計算值）2.1nm的電子束，簡便地描畫出線寬在8nm以下（實際可達5nm）的圖形。 ...

詳細摘要： JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節(jié)點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 的技術(shù)實現(xiàn)了高速、高精度和...

詳細摘要： JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節(jié)點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 zei的技術(shù)實現(xiàn)了高速、高精...

詳細摘要： 用氣體通過管道定量輸送粉末的送粉器

詳細摘要： JNM-ECZR系列是高度結(jié)合了數(shù)字技術(shù)和高頻技術(shù)研制的脈沖傅里葉變換核磁共振儀。電路的高度集成化提高了譜儀的可靠性、實現(xiàn)了機體的小型化，譜儀對多通道操作、高功...

詳細摘要： Delta NMR數(shù)據(jù)處理軟件是ECA和 ECX系列核磁共振系統(tǒng)使用的數(shù)據(jù)處理軟件?？稍赪indows和MacOS平臺上運行，功能豐富，可操作性強，是強有力的N...

詳細摘要： JES-X3系列電子自旋共振譜儀，經(jīng)過進一步改良低噪音耿氏振蕩器，達到了的靈敏度。由于人們已經(jīng)認識到樣品中極少量的未成對電子會在很大程度上左右著材料的性能，因此...

詳細摘要： 是濺射、刻蝕、CVD、離子鍍等薄膜制備/加工使用的、用于生成等離子體的13.56MHz高頻電源（RF電源）

詳細摘要： JEBG系列大功率電子槍是在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在不斷輸送中的寬幅塑料和大面積玻璃基板上高速率地連續(xù)鍍膜，此外在電子束熔煉時，可...

詳細摘要： 和偏轉(zhuǎn)型電子槍結(jié)合使用，用作電子束蒸鍍的高壓電源

詳細摘要： 用于光學薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源

詳細摘要： 隨著材料構(gòu)造的微細化和制造過程的復雜化，形貌觀察、元素分析和晶體分析等的評估技術(shù)也對分辨率和精度有了更高的要求。為了滿足這些需求，JEOL推出新一代雙束加工觀察...

詳細摘要： JIB-4000PLUS 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng)配置了高性能的離子鏡筒(單束FIB裝置)。 被加速的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后，能對樣品表面進行SIM觀察 、研磨...

詳細摘要： 以電子束為熱源使用各種熔解用坩堝，對高融點活性金屬進行熔解/精煉、制備鑄錠的電子束熔煉爐。 適合研究開發(fā)及少量生產(chǎn)、省空間設計的小型熔煉爐。 可按照用途選擇坩堝...

詳細摘要： IB-19520CCP在加工過程中利用液氮冷卻，能減輕離子束對樣品造成的熱損傷。冷卻持續(xù)時間長、液氮消耗少的構(gòu)造設計。在裝有液氮的情況下，也能將樣品快速冷卻、恢...