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詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：1700℃兩通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-4-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成，工作溫度可達1600℃，混氣系...

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：4路質(zhì)子混氣管式PECVD系統(tǒng)是為了使化學反應能在較低的溫度下進行

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：生長納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐，專為生長各種納米線而設計，基片3″

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：快速升溫CVD系統(tǒng)RTP-1000-F3LV是專為半導體基片、太陽能電池及其它樣品（尺寸可達3″）的退火而設計，配有3路流量計和機械泵

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區(qū)管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統(tǒng)組成，可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合...

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：高真空三溫區(qū)CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-Ⅲ-C9HV是由九通道質(zhì)量流量控制器和高真空機組組成的CVD系統(tǒng)，其爐管直徑為4″，溫度可達1200℃，...

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統(tǒng)和高真空機組組成，可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品（...

詳細摘要： 產(chǎn)品簡介：高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成，工作溫度可達1200℃，混氣系統(tǒng)可以對兩種氣體進...

詳細摘要： 20MPA/70MPa/200MPa/400MPa電動注射泵：EHP20/70/200/400這種液壓泵使用電力推動液壓缸實現(xiàn)高壓輸出，由于采用程序控制流量輸出...

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該裝置為低溫液氮金剛石對頂砧恒溫器，通過儲液式腔體對側面金剛石對頂砧進行持續(xù)冷卻，維持低溫樣品環(huán)境，可以用于高壓低溫光學測量實驗

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：制冷裝置系統(tǒng)組成：該系統(tǒng)由制冷機SRDK-415D2、壓縮機F-50H、水冷機、分子泵組、溫度傳感器、控溫儀、真空腔體、KF25真空抽口、以及制冷機減...

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該裝置為一套同軸穿心結構高壓裝置，可以通過電動加壓泵對高壓壓腔進行準確加壓，結構簡單，使用方便

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該裝置為1套巴黎愛丁堡結構高壓裝置，可以通過電動加壓泵對高壓壓腔進行準確加壓，結構簡單，使用方便

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：EMGHV系列吸氣泵是以高吸氣速率、大吸氣量以及良好機械性能的燒結性多孔吸氣劑為基礎組裝而成

詳細摘要： NOVAE515紅寶石標壓系統(tǒng)標壓系統(tǒng)紅寶石熒光標壓系的原理是紅寶石的R1熒光線在不同壓力下，其波長位置會做相應的改變（常溫常壓下是694.3nm），根據(jù)所處的...

詳細摘要： BC-2905皮秒打孔機技術參數(shù)指標 適用加工范圍 可對厚度100m的大多數(shù)金屬材料(包括不銹鋼、鈦、鎢、銅等)進行圓孔切割，切割圓孔最小直徑25m

詳細摘要： 其他類金剛石對頂砧壓腔Symmetric DAC

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：EMG-VB系列真空樣品轉移箱可以將鋰離子電池材料、生物材料以及其他不能暴露于空氣中的材料在手套箱和掃描電鏡樣品倉之間或者遠距離實驗工況之間來回轉移，...

詳細摘要： 真空/氣氛保護樣品實驗腔室系列產(chǎn)品介紹：EMGPC系列DACcell氣氛保護腔室裝置是一套采用簡易水冷裝置、真空密封、液氮引入的DACcell環(huán)境腔室，適宜在高...

詳細摘要： 產(chǎn)品介紹：該手動泵站的液壓動力單元采用美國HIP手動發(fā)生器，通過高壓閥門管件接頭組合成一套簡易手動增壓設備，利用手動發(fā)生器手柄不斷作用于大面積活塞從而產(chǎn)生小面積...