CVD浮子混氣系統(tǒng)適用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備,生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用

功能特點：
1、高真空系統(tǒng)由雙級旋片真空泵和分子泵組成，真空可達0.0001Pa；
2、可配合壓強控制儀控制氣體壓力實現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制；
3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計，流量顯示儀等組成，實現(xiàn)氣體的流量的精密測量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。
4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用世界Swagelok卡套連接，不漏氣；
5、超溫、過壓時，自動切斷加熱電源及流量計進氣，使用安全可靠。
產(chǎn)品用途：
適用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備，生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復(fù)合薄膜等，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用
產(chǎn)品參數(shù)

• 電壓：AC220V 50/60Hz
• 功率：6KW
• 爐管：采用99氧化鋁剛玉管，致密度高，經(jīng)久耐用，不易斷裂
• 爐管尺寸：Φ40/60/80*/1000mm(可定制)
• 爐管配件：4個氧化鋁管堵
• 加熱元件：6根U型硅鉬棒
• 加熱區(qū)長度：400mm(可定制)
• 恒溫區(qū)長度：200mm(可定制)
• 工作溫度：≤1600℃
• 溫度：1650℃
• 升溫速率：≤10℃/min
• 溫控系統(tǒng)：溫度控制采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能、50段升降溫程序
• 測溫元件：B型雙鉑銠熱電偶
• 恒溫精度：±1℃
• 流量規(guī)格：0.3~3L/min
• 控制精度：±5%
• 極限真空：6.0×10-5Pa
• 工作真空：7.6×10-4Pa
• 測溫元件：B型雙鉑銠熱電偶
• 尺寸：高溫爐：660*580*910mm、混氣移動工作臺：800*540*720mm
• 可選配件：HQZ混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng)，各種剛玉坩堝，剛玉管，計算機控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀，冷卻水循環(huán)機等。