當前位置：成都紐曼和瑞微波技術有限公司>>微波等離子體化學氣相沉積（MPCVD）設備>> HMPS-2060SP微波等離子體(CVD)系統
◆高品質單晶金剛石、多晶金剛石的批量生長。
◆多種薄膜的CVD制備、材料表面處理和改性、低溫氧化物的生長等。
◆第三代高穩(wěn)定固態(tài)功率源；上饋式圓柱型放電腔；
◆適合光學、電子、工具級金剛石膜或單晶、石墨烯等的產業(yè)化生產，材質表面處理、低溫氧化物的生長等。
◆性能*，安全、可靠性強、重現性好，操作簡便。
◆多參數實時監(jiān)測、采集與記錄，PLC屏幕控制，多重聯鎖保護。
| （1） | 型號 | HMPS-2060SP |
| （2） | 電源 | AC380±10% V 三相五線制 50Hz，額定輸入＜18KVA |
| （3） | 微波輸出功率 | 0.5~6kW 連續(xù)可調 |
| （4） | 功率穩(wěn)定度 | 1%（@穩(wěn)態(tài)） |
| （5） | 紋波 | ≤1% |
| （6） | 微波頻率 | 2450MHz±50MHz |
| （7） | 測溫方式 | 紅外300~1400℃ |
| （8） | 極限真空度 | 6×10-6torr |
| （9） | 腔體內工作壓力 | 7torr~250torr |
| （10） | 樣品臺 | Φ60mm |
| （11） | 樣品臺軸向調節(jié)范圍 | 0-60mm |
| （12） | 工作氣氛 | 五路（可用戶定制） |
| （13） | 微波泄漏值 | ＜5mW/cm2 |
| （14） | 工作環(huán)境 | 溫度15-40℃，相對濕度≤60%，無腐蝕性氣體 |
| （15） | 冷卻水 | ＞37L/Min |
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