更新時(shí)間:2026-10-01
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納米高剪切均質(zhì)機(jī)
高剪切均質(zhì)機(jī)主要是由于定轉(zhuǎn)子之間相對(duì)的高速運(yùn)動(dòng)產(chǎn)生的高剪切作用 ,同時(shí)伴隨著較強(qiáng)的空穴作用對(duì)物料顆粒進(jìn)行分散、細(xì)化、均質(zhì)的 ;而高壓均質(zhì)機(jī)主要是靠高壓流體產(chǎn)生的強(qiáng)烈、充分的空穴效應(yīng)和湍流作用使流體分散相中的顆粒破碎達(dá)到均質(zhì)目的。
不難理解 ,由于ji強(qiáng)烈的空穴作用 ,高壓均質(zhì)機(jī)對(duì)處理軟性、半軟性的顆粒狀物料比較合適 ;研究發(fā)現(xiàn)對(duì)于纖維的粉碎的力場(chǎng)是剪切力和研磨力 ,常溫下沖擊力對(duì)纖維是無(wú)能為力的 ,而高剪切均質(zhì)機(jī)能對(duì)物料產(chǎn)生強(qiáng)烈的剪切與研磨作用 ,因此高剪切均質(zhì)機(jī)比較適合處理含纖維較多或者理,容易出現(xiàn)稀奶油層 ,較硬的顆粒物料。

對(duì)于納米的物料分散均質(zhì)一直是人們關(guān)注的熱點(diǎn),納米分散存在著難以解決的問(wèn)題,納米物料分散到流體物質(zhì)當(dāng)中容易形成二級(jí)團(tuán)聚體,導(dǎo)致物料粒徑變大,難以分散。從而使zui終的乳化液體系不穩(wěn)定,容易沉降分層。面對(duì)這種情況,SID研發(fā)出新型設(shè)備的納米均質(zhì)機(jī),應(yīng)對(duì)納米物質(zhì)的分散均質(zhì)問(wèn)題。并有著廣泛的實(shí)例,如納米級(jí)白炭黑的分散,納米級(jí)石墨烯的分散,都在使用SID納米研磨均質(zhì)機(jī)進(jìn)行分散處理,效果xian著。
自主研發(fā)生產(chǎn)的納米均質(zhì)機(jī),具有高轉(zhuǎn)速、低能耗、低噪音、高壽命等優(yōu)勢(shì),經(jīng)過(guò)SID全體研發(fā)生產(chǎn)部員工的不懈努力,終于解決了均質(zhì)機(jī)的提速問(wèn)題。市場(chǎng)上一般使用的均質(zhì)機(jī)由于定轉(zhuǎn)子精度以及機(jī)械密封的原因,轉(zhuǎn)速只能達(dá)到2910轉(zhuǎn),而SID研發(fā)的納米均質(zhì)機(jī)將轉(zhuǎn)速提高到9000轉(zhuǎn),剪切力更強(qiáng),分散乳化均質(zhì)效果更佳。

納米高剪切均質(zhì)機(jī)設(shè)備參數(shù)表:
標(biāo)準(zhǔn)流量 | 輸出轉(zhuǎn)速 | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 | 馬達(dá)功率 | |||
L/H | rpm | m/s | KW | |||
GRS2000/4 | 300 | 14000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GRS2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GRS2000/10 | 3000 | 7500 | 44 | 22 | DN50 | DN50 |
GRS2000/20 | 20000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GRS2000/30 | 40000 | 2850 | 44 | 75 | DN150 | DN125 |
GRS2000/50 | 60000 | 2000 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
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