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硼氫hua鈉立式膠體磨

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產(chǎn)品型號(hào)GMSD2000

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更新時(shí)間：2026-10-13 08:40:43瀏覽次數(shù)：3次

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太倉希德機(jī)械科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

硼氫hua鈉立式膠體磨是一種用于硼氫hua鈉加工處理的設(shè)備，主要通過高剪切力等作用實(shí)現(xiàn)硼氫hua鈉的粉碎、分散等。

詳細(xì)介紹

硼氫hua鈉立式膠體磨

硼氫hua鈉常溫常壓下穩(wěn)定。硼氫hua鈉堿性溶液呈棕黃色。常用的還原劑之一。對(duì)空氣中的水氣和氧較穩(wěn)定，操作處理容易。適用于工業(yè)規(guī)模，因?yàn)槿芙庑缘膯栴}，通常使用甲醇、乙醇作為溶劑。通常情況下，硼氫hua鈉無法還原酯，酰胺，羧酸及腈類化合物，但當(dāng)酯的羰基α位有雜原子存在時(shí)例外，可以將酯還原。與硼氫hua鈉接觸后有咽喉痛、咳嗽、呼吸急促、頭痛、腹痛、腹瀉、眩暈、眼結(jié)膜充血、疼痛等癥狀。吸入或者皮膚接觸該試劑對(duì)人體有害。應(yīng)干燥保存，使用時(shí)應(yīng)特別小心，操作時(shí)在通風(fēng)櫥中進(jìn)行。應(yīng)貯存在陰涼、干燥的庫房中。防潮，防震，勿與無機(jī)酸共貯混運(yùn)，遠(yuǎn)離熱源和火種及易燃物品。

硼氫hua鈉立式膠體磨

硼氫hua鈉可以在非常溫和的條件下實(shí)現(xiàn)醛酮羰基的還原，生成一級(jí)醇、二級(jí)醇。還原步驟是先把底物溶于溶劑，一般是甲醇或者乙醇，然后用冰浴冷卻，將粉末加入混合物攪拌至反應(yīng)wan全即可。它是一種中等強(qiáng)度的還原劑，所以在反應(yīng)中表現(xiàn)出良好的化學(xué)選擇性，只還原活潑的醛酮羰基，而不與酯、酰胺作用，一般也不與碳碳雙鍵、叁鍵發(fā)生反應(yīng)。少量硼氫hua鈉可以將腈還原成醛，過量則還原成胺

GM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求

膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。

硼氫hua鈉立式膠體磨

研磨頭表面涂料一層及其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理，這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成，并且具有不同的粒徑，研磨頭處形成了一個(gè)具有較強(qiáng)的剪切區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后粒徑大小都比膠體磨GM2000的效果更加理想。

硼氫hua鈉立式膠體磨設(shè)備參數(shù)表：

研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到允許量的 10%。