真空井式坩堝爐以含鉬電阻絲或者硅碳棒為加熱元件,采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和智能化程序控溫系統(tǒng),移相觸發(fā)、可控硅控制,爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料,雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng),能快速升降溫,具有真空裝置,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等點。
1200℃真空井式坩堝爐用途:
1200℃真空井式坩堝爐用于氣氛保護下燒結(jié)、真空下反應(yīng)燒結(jié)等。廣泛應(yīng)用于高等院校,科研院所,工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)。 主要用于煅燒真空或惰性氣體保護下的高純度化合物或擴散半導體晶片,也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料。主要技術(shù)參數(shù):
| 電爐名稱 | 1200℃真空井式坩堝爐 Vacuum crucible furnace |
| 額定溫度 | 1200℃ |
| 工作溫度 | 1100℃ |
| 推薦升溫速率 | 10℃/min |
| 控溫精度 | ±1℃ |
| 爐膛有效尺寸 | ?180*210(外徑*高) |
| 泄壓閥工作壓力 | 0.05Mpa |
| 額定電壓 | AC 220V 50/60 Hz |
| 額定功率 | 3KW |
| 外形尺寸 | 460mm*460mm*720mm (長*寬*高) |
| 可通入氣氛 | 氮氣、氬氣等保護性氣體 |
使用環(huán)境:
環(huán)境溫度≤40℃,相對濕度≤85%,
設(shè)備周圍無導電塵埃和易燃易爆氣體。
小型坩堝爐廠家哪個好?
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