快速熱處理退火爐簡(jiǎn)稱(chēng)RTP（RapidThermalProcessingFurnace），由我公司借鑒了國(guó)際*制造工藝，在管式爐的基礎(chǔ)上自主研發(fā)而成，不但擁有極快的升溫速率500℃/S，而且降溫速率也有了質(zhì)的飛躍100℃/S

快速熱處理退火爐簡(jiǎn)稱(chēng) RTP（Rapid Thermal Processing Furnace），由我公司借鑒了國(guó)際*制造工藝，在管式爐的基礎(chǔ)上自主研發(fā)而成，不但擁有極快的升溫速率500℃/S，而且降溫速率也有了質(zhì)的飛躍100℃/S。我們的工程師們巧妙地利用了冷壁工藝，以至于達(dá)到如此快的降溫速度。真正的極速升溫和極速降溫！

腔體采用了雙層石英管結(jié)構(gòu)，外層管進(jìn)氣，內(nèi)層管出氣，使得反應(yīng)氣氛與加工樣品充分而均勻地接觸。

加熱燈管之所以能夠讓硅片快速升溫，是因?yàn)楣庠床ㄩL(zhǎng)在0.3-4微米之間，石英管壁無(wú)法有效吸收這一波段的輻射，而晶片則正好相反。因此，晶片可以吸收輻射能量快速加熱，而此時(shí)石英管壁仍維持低溫，即所謂冷壁工藝。

應(yīng)用領(lǐng)域

Ø 快速熱退火 (RTA); 離子注入后退火

Ø 石墨烯等氣象沉積，碳納米管等外延生長(zhǎng)

Ø 快速熱氧化 (,RTO); 熱氮化 (RTN);

Ø 硅化 (Silicidation);

Ø 擴(kuò)散 (Diffusion);

Ø 離子注入后退火 (Implant Annealing);

Ø 電極合金化 (Contact Alloying);

Ø 晶向化和堅(jiān)化 (Crystallization and Densification);

主要特點(diǎn)

Ø 極速升溫100℃/S，極速降溫100℃/S；

Ø 雙層爐管結(jié)構(gòu)，氣氛與樣品接觸更均勻；

Ø 直接測(cè)量樣品表面溫度，測(cè)溫更精準(zhǔn)；

Ø 爐膛根據(jù)設(shè)置可自動(dòng)左右移動(dòng)，可以滿(mǎn)足更多的實(shí)驗(yàn)應(yīng)用；

Ø 真空度可達(dá)7.4×10-4Pa；

型號(hào)

* 溫度

升溫速率 ℃/S

降溫速率

管徑

處理晶片

加熱區(qū)

恒溫區(qū)±2℃

外形尺寸mm

功率

重量

℃/S

(內(nèi))mm

尺寸 in

長(zhǎng)度mm

長(zhǎng)度mm

寬

深

高

千克

RTP1100

1100℃

100

100

103

4″

200

150

800

540

750

5.0kw

45

*800℃以上保溫時(shí)間超過(guò)1分鐘會(huì)影響降溫速度，保溫10分鐘以上，需選配法蘭水冷套。

原創(chuàng)作者：廈門(mén)科朋儀器有限公司