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內容聲明：
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產品簡介
簡單介紹： RTP快速退火爐的主要特點有：可在真空/不同氣氛/空氣不同環(huán)境下，對樣品進行快速熱處理；控溫精度高；適合高等院?；蜓芯繖C構科研使用；主動式水循環(huán)冷卻模式；立式設計；儀器采用觸摸屏技術：操作方便，裝取樣片簡單高效；價格合理，高性價比。
快速退火爐 電阻爐/馬弗爐/退火爐詳細信息
詳情介紹：
RTP快速退火爐的主要技術參數如下
加熱元件：鹵素電極；
加熱元件：鹵素電極；
電極數量：12支；
整機功率：7.2KW；
升溫速率：200℃/Second；
降溫速率：30秒(1000℃ → 400℃)；
*高溫度：1100℃；
溫度精度：+/- 1℃；
*大樣品尺寸：4英寸；
氣氛環(huán)境：真空、氣體（氮氣、氬氣、氧氣）、空氣；
真空系統(tǒng)：可根據實際需要選配無油機型泵或者分子泵
整機功率：7.2KW；
升溫速率：200℃/Second；
降溫速率：30秒(1000℃ → 400℃)；
*高溫度：1100℃；
溫度精度：+/- 1℃；
*大樣品尺寸：4英寸；
氣氛環(huán)境：真空、氣體（氮氣、氬氣、氧氣）、空氣；
真空系統(tǒng)：可根據實際需要選配無油機型泵或者分子泵
應用領域：
-快速熱退火
- 快速熱氧化
- 快速熱氮化
- 硅化
- 擴散
- 化合物半導體退火
- 離子注入后退火
- 電極合金化
- 晶向化和堅化
- 合金熔點分析;
- 薄膜沉積; 等等…
-快速熱退火
- 快速熱氧化
- 快速熱氮化
- 硅化
- 擴散
- 化合物半導體退火
- 離子注入后退火
- 電極合金化
- 晶向化和堅化
- 合金熔點分析;
- 薄膜沉積; 等等…
欲了解更多關于RTP快速退火爐的詳情可致電：138
關鍵詞：退火爐
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