近年來(lái)，半導(dǎo)體器件變得越來(lái)越小,隨著半導(dǎo)體工藝從28nm走向7nm、5nm及更先進(jìn)等級(jí)后,先進(jìn)制程對(duì)雜質(zhì)的敏感度更高,小尺寸污染物的高效清洗將更困難。這意味著超純水的制備工藝將更重要、更富挑戰(zhàn)性。與此同時(shí),更要求企業(yè)具備持續(xù)創(chuàng)新能力,不斷精進(jìn)超純水制備技術(shù)和工藝。

一般超純水系統(tǒng)要經(jīng)由多重過(guò)濾、離子交換、除氣、逆滲透、紫外線、超濾、納米濾、離子吸附過(guò)濾等多個(gè)環(huán)節(jié)才能產(chǎn)生超純水,整個(gè)制造過(guò)程中采用的工藝技術(shù)復(fù)雜而精細(xì),不容偏差。 半導(dǎo)體行業(yè)超純水對(duì)于電阻率的要求非常嚴(yán)格,電阻率大于18.2MΩ•厘米,理論上幾乎不含離子,常規(guī)的單一工藝很難達(dá)到這一要求。多采用幾種工藝聯(lián)合使用,如樹(shù)脂+RO+EDI等,各地自來(lái)水的離子含量也各有差別,需根據(jù)不同的情況調(diào)整工藝組合情況,對(duì)顆粒進(jìn)行去除后再進(jìn)行脫鹽工藝。

脫氣工藝方面,近些年半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)于溶解氧(DO)的要求需小于1ppb,所以去除水中的溶解氧是技術(shù)難點(diǎn)。在去除的同時(shí),還要保證隔絕空氣,對(duì)于容器和管道的氣密性要求非常嚴(yán)格。通常需要通過(guò)多級(jí)高性能脫氣膜聯(lián)合運(yùn)行,才能達(dá)到半導(dǎo)體工業(yè)超純水深度脫氣需求。

半導(dǎo)體所用超純水生產(chǎn)技術(shù)難度高,具有較高的技術(shù)門(mén)檻和原材料壁壘,部分關(guān)鍵材料或產(chǎn)品不得不依靠進(jìn)口。不過(guò)近年來(lái)我國(guó)超純水制備工藝有了長(zhǎng)足進(jìn)步,技術(shù)壁壘漸獲突破, 這將進(jìn)一步助推我國(guó)半導(dǎo)體領(lǐng)域的健康持續(xù)發(fā)展。

萊特萊德超純水設(shè)備與傳統(tǒng)工藝相比，運(yùn)行成本低且運(yùn)行可靠，整體化程度高、易于擴(kuò)展、增加膜數(shù)量即可增加處理量。自動(dòng)化程度高，遇故障立即自停，具有自動(dòng)保護(hù)功能。膜組件為復(fù)合膜卷制而成，具有較高的溶質(zhì)分離率和透過(guò)率。能耗低、水利用率高、運(yùn)行成本低。超純水設(shè)備生產(chǎn)的水質(zhì)是除了水分子外，幾乎沒(méi)有什么雜質(zhì)，電阻率可達(dá)到18MΩ·CM，符合半導(dǎo)體行業(yè)用水需求。

萊特萊德在專注于超純水領(lǐng)域多年，超純水設(shè)備是將反滲透水處理設(shè)備、電去離子(EDI)設(shè)備和拋光混床相結(jié)合。這不僅是一種制備超純水的新技術(shù)，也是一種環(huán)保、經(jīng)濟(jì)、發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚒?/p>