日本JEOL 場發(fā)射電子探針顯微分析儀 JXA-8530F Plus

2003年日本電子推出了世界*商業(yè)化場發(fā)射電子探針（FE-EPMA），此后被廣泛地應(yīng)用于金屬、材料、地質(zhì)等各個領(lǐng)域，并獲得了*的贊譽。研發(fā)的第三代場發(fā)射電子探針JXA-8530F Plus，電子光學(xué)系統(tǒng)有了很大的改進(jìn)，新的軟件能提供更高的通量，并保持著*的穩(wěn)定性，能實現(xiàn)更廣泛的EPMA應(yīng)用。

產(chǎn)品特點：

· 肖特基場發(fā)射電子探針Plus

· JXA-8530F Plus采用浸沒式肖特基場發(fā)射電子槍,優(yōu)化了角電流密度，能利用2 μA以上的大探針電流進(jìn)行分析，還提高了分析條件下的二次電子像的分辨率。

· 高級軟件

· 新開發(fā)了多種基于Windows操作系統(tǒng)的軟件，其中包括：能使痕量元素分析更加簡便的“痕量元素分析程序”、能自動制作相圖的“相圖制作器”以及只需簡單輸入就能對表面凹凸不平樣品進(jìn)行測試的“不平坦樣品的分析程序”等。

· 備注：Windows7® 為美國微軟公司在美國及其它國家的注冊商標(biāo)或商標(biāo)。

· 靈活的WDS配置

· X射線波譜儀可以選擇140 R或100 R羅蘭圓， 羅蘭圓半徑為140 mm的XCE/L型X射線譜儀檢測范圍寬，波長分辨率高和P/ B比優(yōu)異，100 mm的H型X射線譜儀具有X射線衍射強度高的特點，可以根據(jù)需要選擇使用。

· WDS/EDS組合系統(tǒng)

· JXA-8530FPlus標(biāo)配了JEOL制造的30平方毫米 SD檢測器（以下簡稱SD檢測器），憑借高計數(shù)率的SD檢測器，在與WDS相同的分析條件下可以進(jìn)行EDS分析，通過簡單的操作就能采集EDS譜圖。

· 多功能樣品室

· 樣品室的可擴展性強，配備了樣品交換室，可以安裝各種附件。 可以安裝的附件

· • 電子背散射衍射系統(tǒng)（EBSD）

· • 陰極熒光檢測系統(tǒng)

· • 軟X射線分析譜儀

· • 不暴露在大氣環(huán)境下的轉(zhuǎn)移艙

· • 高蝕刻速率的離子源

· 強力、清潔的真空系統(tǒng)

高強力真空系統(tǒng)包括兩臺磁懸浮渦輪分子泵， 鏡筒內(nèi)還采用兩個中間室，通過差動抽氣保持電子槍室的高真空。

· 軟X射線分析譜儀 (SXES)

· SXES (Soft X-Ray Emission Spectrometer)　 軟X射線分析譜儀

· 日本東北大學(xué)多元物質(zhì)科學(xué)研究所（寺內(nèi)正己教授）和日本電子株式會社共同開發(fā)的的高分辨率軟X射線分析譜儀。 新開發(fā)的變柵距衍射光柵(VLS）和高靈敏度的CCD相機組合，同時檢測Li-K系譜線和B-K系譜線，該譜儀實現(xiàn)了*的能量分辨率，因而能進(jìn)行化學(xué)結(jié)合狀態(tài)分析等。

· miXcroscopy （關(guān)聯(lián)顯微鏡)

· miXcroscopy 光學(xué)顯微鏡/掃描電子顯微鏡關(guān)聯(lián)系統(tǒng)

· 能批量登錄光學(xué)顯微鏡的坐標(biāo)數(shù)據(jù)作為EPMA的分析點，該系統(tǒng)于需要用光學(xué)顯微鏡決定分析位置的樣品。