反射膜厚儀RM 1000和RM 2000

反射膜厚儀RM 1000/2000具有200nm-930nm的紫外-近紅外光譜范圍。光學(xué)布局為光吞吐量優(yōu)化，以便即使在粗糙或曲面上也能可靠地測量n和k。精確的高度和傾斜特別適用于精確的單光束反射率測量，且測量非常穩(wěn)定。

擴(kuò)展折射率指數(shù)測量極限

我們的反射儀的特點(diǎn)是通過樣品的高度和傾斜調(diào)整進(jìn)行精確的單光束反射率測量，光學(xué)布局的高光導(dǎo)允許對n和k進(jìn)行重復(fù)測量，對粗糙表面進(jìn)行測量以及對非常薄的薄膜進(jìn)行厚度測量。

紫外-近紅外光譜范圍

RM 1000 430 nm – 930 nm

RM 2000 200 nm – 930 nm

高分辨率自動掃描

反射儀RM 1000和RM 2000可以選配x-y自動掃描臺和自動掃描軟件、用于小光斑尺寸的物鏡和攝像機(jī)。

反射膜厚儀RM 1000和RM 2000測量具有光滑或粗糙表面的平坦或彎曲樣品的反射率。利用SENTECH FTPadv Expert軟件計算單層或?qū)盈B膜的厚度、消光系數(shù)和折射率指數(shù)。在紫外-可見光- 近紅外光譜范圍內(nèi)，可以分析5nm～50μm厚度的單層膜、層疊膜和基片。

RM 1000和RM 2000代表SENTECH反射儀。臺式裝置包括高度穩(wěn)定的光源、具有自動準(zhǔn)直透鏡和顯微鏡的反射光學(xué)部件、高度和傾斜可調(diào)的樣品臺、光譜光度計和電源。它可以選配x-y自動掃描臺和自動掃描軟件、用于小光斑尺寸的物鏡和攝像機(jī)。

除了膜厚和光學(xué)常數(shù)之外，我們的反射儀還可以測量薄膜(例如，AlGaN on GaN，SiGe on Si)、防反射涂層(例如，紋理硅太陽能電池上的防反射涂層、紫外敏感GaN器件上的防反射涂層)，以及小型科研支架上的防反射涂層。該反射儀支持在微電子、微系統(tǒng)技術(shù)、光電子、玻璃涂層、平板技術(shù)、生命科學(xué)、生物技術(shù)等領(lǐng)域的應(yīng)用。