德Zeiss Sigma SEM 電子束直寫(xiě)儀
型號(hào)：Zeiss Sigma SEM

主要功能：
·利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫(xiě)各種圖形，圖形結(jié)構(gòu)（最小線寬為10nm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件，光子晶體，低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。

技術(shù)指標(biāo)：
·肖特基熱場(chǎng)發(fā)射電子源
·加速電壓：100V～30kV
·放大倍率：12X～1000,000X
·SEM分辨率：1nm@30kV,1.5nm (15kV),2.8nm（1kV）
·電子束曝光：10nm（20kV）
·場(chǎng)拼接精度：<100nm
·掃描頻率：6MHz
·圖形格式：GDSII