PECVD Depolab 200 等離子體沉積機(jī)

成本效益

PECVD等離子體沉積工具Depolab 200將平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接負(fù)載相結(jié)合。

可升級(jí)性

根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì)，depolab200可以升級(jí)為更大的抽油機(jī)、低頻電源和額外的燃?xì)夤艿馈?/span>

SENTECH控制軟件

用戶友好功能*的軟件包括模擬GUI，參數(shù)窗口，食譜編輯器，數(shù)據(jù)日志，用戶管理。

Depolab 200是由SENTECH公司開發(fā)的一種基本的等離子體增強(qiáng)化學(xué)沉積(PECVD)工具，它將用于均勻薄膜沉積的平行板電極設(shè)計(jì)與直接負(fù)載的經(jīng)濟(jì)有效設(shè)計(jì)相結(jié)合。從2英寸到8英寸的晶圓片和樣品片上的標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用開始，它可以逐步升級(jí)以適應(yīng)復(fù)雜的加工。

Depolab 200的突出特點(diǎn)是系統(tǒng)的堅(jiān)固性設(shè)計(jì)、可靠性和軟硬件的靈活性。在這個(gè)系統(tǒng)上開發(fā)了不同的程序。用于高品質(zhì)氮化硅和氧化硅層沉積。Depolab 200包括帶有氣箱、控制電子、計(jì)算機(jī)、背泵和主連接箱的反應(yīng)器單元。

Depolab 200等離子體增強(qiáng)沉積工具可在400℃以下的溫度范圍內(nèi)沉積SiO2、SiNx、SiONx和a- si薄膜。Depolab 200特別適用于蝕刻掩膜、膜、電隔離膜等介質(zhì)薄膜的沉積。

Depolab 200由森泰克*控制軟件操作，使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)和非常友好的通用用戶界面。

Depolab 200

PECVD等離子體沉積工具

打開蓋子加載

適用于200毫米晶圓

基片溫度可達(dá)400℃

低應(yīng)力薄膜可選低頻混頻

干式抽油機(jī)

占用空間小