詳細(xì)介紹
BX51-IR型近紅外顯微鏡

MX63L-IR型近紅外顯微鏡(12"晶圓檢查專用顯微鏡)

紅外物鏡
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| LMPLN5XIR | LMPLN10XIR | LCPLN20XIR | LCPLN50XIR | LCPLN100XIR注意 |
| 倍數(shù) | 數(shù)值孔徑 | 工作距離(mm) | 硅片厚度 | 分辨率(μm) |
| 5X | 0.1 | 23 | —— | 5.50 |
| 10X | 0.3 | 18 | —— | 1.83 |
| 20X | 0.45 | 8.3 | 0-1.2 | 1.22 |
| 50X | 0.65 | 4.5 | 0-1.2 | 0.85 |
| 100X | 0.85 | 1.2 | 0-1 | 0.65 |
注:分辨率在1100nm波長下計算
新舊紅外物鏡性能對比
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| LMPL20XIR(舊型號) | LCPLN20XIR(新型號) | LMPL50XIR(舊型號) |
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| LCPLN50XIR(新型號) | LMPL100XIR(舊型號) | LCPLN100XIR(新型號) |
紅外顯微鏡的應(yīng)用
– Vcsel芯片隱裂(cracks)、InGaAs瑕疵紅外無損檢測
– 法拉第激光隔離器,Faraday Isolator近紅外無損檢測
– die chip 失效分析
– 紅外透射Wafer正反面定位標(biāo)記重合誤差無損測量
– 硅基半導(dǎo)體Wafer、碲化鎘CdTe、碲鎘汞HgCdTe襯底無損紅外檢測
– 太陽能電池組件綜合缺陷紅外檢測
Vcsel芯片隱裂(cracks)

法拉第激光隔離器膠合偏振片無損檢驗(yàn)

die chip 失效分析

紅外Wafer正反面定位標(biāo)記重合誤差無損測量

硅基半導(dǎo)體Wafer、碲化鎘CdTe、碲鎘汞HgCdTe襯底 缺陷無損紅外檢測

太陽能電池組件綜合缺陷紅外檢測

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