簡單的顯微鏡

材料學的解決方案

Leica DM4M

Leica DM6M

可重復的手段可靠

用于材料學和質量控制的Leica DM4M和DM6M數字顯微鏡可提供真正的再現性顯微鏡，令人難以置信的光學元件和高質量圖像。只需按一下按鈕即可存儲和調用您的成像條件。高質量的顯微鏡圖像使檢測，測量和分析任務變得簡單。

整個工作場所的一致性

擁有眾多實驗室和不同檢測點的公司依靠可比較的結果 - 無論它們來自何處。Leica DM4M和DM6M使用戶可以輕松保存宋體, SimSun;">照明管理器

根據需要隨時改變對比度模式和放大倍數 - 并確信您使用的是正確的照明強度。徠卡的照明管理器根據所選的對比度模式自動調整光照強度。保存您為每個物鏡的光強度，光圈和視場光瀾，并隨時調用這些設置。

對比度管理器

Leica DM4M和DM6M可以在各種對比度模式之間輕松切換：選擇特定的對比度模式，在不到一秒鐘的時間內，所有元件都會進入光路。另外，顯微鏡會自動將照明設置，亮度和光圈位置調整為該模式。另外，Leica DM6M會自動對焦。無需費時的調整 - 只需讓系統(tǒng)為您完成工作即可。這種超簡單的操作有助于避免錯誤，并確保的重現性 - 無論是誰操作顯微鏡。

光圈

徠卡提供帶有不同尺寸針孔膜片的光盤，這是獲得精確，可重現和快速結果的關鍵。為使用中的物鏡存儲選定的場和孔徑光圈 - 并且確保在調用設置時具有相同的成像條件。光盤上的針孔自動保持與納米級精度相同。使用相機時請選擇矩形針孔：圖像部分將與相機的芯片尺寸相匹配并防止光線損失。

智能連接組件

Leica DM4M和DM6M的編碼組件確保您所拍攝的所有圖像始終經過校準以獲得可重現和可靠的結果。智能地相互鏈接，您可以更改設置，而無需手動調整校準。這確保了更快的操作，更少的錯誤和可靠的數據。

工作流程

你的顯微鏡是復雜工作流程的一部分。提供高質量圖像是關鍵，以及速度，準確性和易用性。Leica DM4M和DM6M提供了一系列智能功能，可使顯微鏡簡單，可靠和高效。

輕松聚焦

難以聚焦反光，拋光和非結構化表面，如裸晶片或鋁。徠卡的重點探測器可幫助您輕松地對這些樣品進行成像，并專注于表面而不會損壞樣品或物鏡。

保持全景物鏡的大圖片

1.25x全景物鏡為您提供樣品表面的快速概覽。結合反射光軸，該目標為低倍率像提供了優(yōu)異的景深和高的照度均勻度。

DIC與微型造影顯示的一個按鈕

只需點擊一下即可選擇DIC（微分干涉對比）。分析片，偏光鏡和適用于所用物鏡的棱鏡自動移動到光路中，即使是最小的劃痕或缺陷以及任何類型的微地形圖也可以高亮顯示。Leica DM4M和DM6M可以可靠調節(jié)照明強度，光圈和視場光闌。這有助于避免錯誤。

所有設置一覽

看一看Leica DM4M清晰排列的顯示屏，您可以看到顯微鏡和相機的所有當前設置。Leica DM6M具有高分辨率觸摸屏，可作為所有電動和編碼功能的控制單元。用戶友好且直觀，通過清晰，易于遵循的控制和儀器狀態(tài)信息，減少了培訓時間。

個別功能

Leica DM4M和DM6M為您的功能提供功能鍵。例如，為快速概覽編程宏模式，為詳細視圖設置10x明場（BF），為高清晰度暗視場設置20x暗場（HDF），并預約一個按鈕以激活文檔攝像機。定制的功能鍵有助于加快您的工作流程。

用高清暗場顯示隱藏的細節(jié)(HDF)

暗場照明在許多工業(yè)應用中是一種重要的對比方法：它可以定位并突出顯示樣品暗凹處的缺陷。在金相學中，暗場照明使您可以判斷拋光過程的質量，因為它會突出劃痕。對于微電子應用，它提供了一個*不同的圖像，可以更容易地檢測缺陷?，F在，徠卡顯微系統(tǒng)公司推出的新型高清晰度暗視場HDF具有更高的對比度，可以看到的結構。與傳統(tǒng)的暗場物鏡相比，工作距離顯著增加。這可以保護樣品和前鏡頭，從而保護您的投資。

軟件，顯微鏡和相機的模塊化系統(tǒng)

選擇您實驗室*要求的個人圖像分析系統(tǒng)。徠卡應用套件（LAS）軟件平臺將顯微鏡，軟件和相機集成在一起，實現了和諧的平滑互動。LAS將微觀硬件和軟件的*功能集成到一個軟件包中，側重于界面，功能和工作流程的各個方面的效率。

具有專家知識的軟件

使用徠卡鋼專家模塊來精確評估符合標準的鋼鐵夾雜物?；蛘呃脧瓶ㄇ鍧嵍葘＜夷K進行水平和垂直尺寸的自動顆粒分析，以及其他信息，如金屬與非金屬。徠卡階段專家支持您精確測量多相微觀結構，而徠卡谷物專家為材料研究和冶金提供全面的晶粒尺寸分析技術。

為今天和明天創(chuàng)建你的顯微鏡

Leica DM4M和DM6M的模塊化概念使您可以創(chuàng)建適合您當前任務的微觀范圍，并且可以稍后輕松升級以便進行未來任務。現在選擇適合您的預算和應用需求的解決方案。并且知道你以后可以添加未來挑戰(zhàn)所需的功能。