edi水處理設(shè)備出水符合標(biāo)準(zhǔn) 超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。 edi超純水裝置-電子行業(yè)超純水系......

edi水處理設(shè)備出水符合標(biāo)準(zhǔn)

超純水設(shè)備出水水質(zhì)*符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

 

edi超純水裝置-電子行業(yè)超純水系統(tǒng)

edi超純水系統(tǒng)工藝流程

預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)

應(yīng)用領(lǐng)域

電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗

電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水

黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水

液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液

晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路

LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)

半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗

超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料

實(shí)驗(yàn)室和中試車間

汽車、家電表面拋光處理

光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品