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詳細(xì)介紹
快速退火爐(Rapid Thermal Process)是一個(gè)簡單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng)，適合于廣泛尺寸為直徑2~12英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火(RTA)，（如電子級(jí)硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等）?？焖偻嘶馉t配有一個(gè)管狀石英反應(yīng)室或不銹鋼腔體，因此可兼容處理長度為300毫米的3 D樣片。
應(yīng)用領(lǐng)域：
- 離子注入/接觸退火；
- 快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；
- 可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用；
- SiAu, SiAl, SiMo合金化；
- 低介電材料；
- 晶體化，致密化；
- 太陽能電池片鍵合；
JetFirst series | JetLight series |
Three versions JetFirst 100, 200 and 300 | One version version JetLight 50 |
Max loading capacity JetFirst 100 : up to 100 mm JetFirst 200 : up to 200 mm JetFirst 300 : up to 300 mm | Max loading capacity JetLight 50 : up to 50 mm
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Cold wall technology : Stainless Steel reactor with a double wall for water cooling 冷隔板技術(shù)：不銹鋼的反應(yīng)倉，帶水冷夾層；【好于熱隔板技術(shù)】 | Hot wall technology : Quartz tube reactor 熱隔板技術(shù)：石英反應(yīng)腔 |
IR lamp furnace with independent heating zone 紅外燈獨(dú)立加熱 | IR lamp furnace with one heating zone 紅外燈只有一個(gè)加熱區(qū) |
Vacuum capability : in standard (primary and secondary vacuum capability 標(biāo)配真空負(fù)壓處理（配有初級(jí)真空和二級(jí)真空模式） | Atmospheric process (upon request possible upgrade for primary vacuum process) 常壓處理（可升級(jí)為初級(jí)真空模式） |
Temperature sensors : thermocouple and optical pyrometer 溫度傳感器：熱偶和光學(xué)高溫計(jì) | Temperature sensor : thermocouple 溫度傳感器：熱偶 |
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