詳細介紹
PE-HPCVD等離子增強混合物理化學氣相沉積系統(tǒng)
本產品是一款1200℃等離子增強混合物理化學氣相沉積(PE-HPCVD)雙溫區(qū)旋轉管式爐系統(tǒng)。該設備包括一臺雙溫區(qū)管式爐,一套鎢絲蒸發(fā)源,一套等離子發(fā)生裝置以及一套質量流量計系統(tǒng)。其工作原理是通過蒸發(fā)源將反應物在進氣端蒸發(fā)后通過氣流載入管式爐溫區(qū)內進行CVD反應,同時通過等離子增強促進反應的發(fā)生,適用于無機復合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆,如制備鋰離子電池陰極粉末的導電涂層等。
| 雙溫區(qū)管式爐 | 產品型號 | CY-O1200-50IIT | |
| 爐管材質 | 高純石英 | ||
| 爐管直徑 | 50mm | ||
| 爐管長度 | 1200mm | ||
| 爐膛長度 | 440mm | ||
| 加熱區(qū)長 | 200mm+200mm | ||
| 工作溫度 | 0~1100℃ | ||
| 控溫精度 | ±1℃ | ||
| 控溫模式 | 30段或50段程序控溫 | ||
| 顯示模式 | 高清全彩LCD觸控屏 | ||
| 密封方式 | 304不銹鋼真空法蘭 | ||
| 供電電源 | AC:220V 50/60Hz 2.5kW | ||
| RF輸出系統(tǒng) | 功率范圍 | 0~300W可調 | |
| 工作頻率 | 13.56MHz+0.005% | ||
| 工作模式 | 連續(xù)輸出 | ||
| 匹配阻抗模式 | 能夠匹配,起輝均勻布滿爐管 | ||
| 功率穩(wěn)定度 | ≤2W | ||
| 正常工作反射功率 | ≤3W | ||
| 放大反射功率 | ≤70W | ||
| 諧波分量 | ≤-50dBc | ||
| 整機效率 | ≥70% | ||
| 功率因素 | ≥90% | ||
| 供電電壓/頻率 | 單相交流(187V~153V) 頻率50/60Hz | ||
| 控制模式 | 內控/PLC 模擬量/RS232/485通訊 | ||
| 電源保護設置 | DC過流保護,功放過溫保護,反射功率保護 | ||
| 冷卻方式 | 強制風冷 | ||
| 起輝長度 | 在Ar下射頻電源與線圈配合起輝輝光能布滿爐管 | ||
| 蒸發(fā)舟 | 工作溫度 | 1300℃ | |
| 蒸發(fā)源 | 鎢絲籃,可選配錐形氧化鋁坩堝 | ||
| 熱電偶 | S型熱電偶 | ||
| 工作電流 | ≤30A | ||
| *大功率 | 500W | ||
| 供氣系統(tǒng) | 流量計 | 四路質子流量計 | |
| 流量范圍 | MFC1量程:0~200sccm MFC2量程:0~200sccm MFC3量程:0~500sccm MFC4量程:0~500sccm 分別對應氣體H2、 CH4、 N2、 Ar、 | ||
| 測量精度 | ±1.5%F.S | ||
| 重復精度 | ±0.2%FS | ||
| 線性精度 | ±1%F.S. | ||
| 響應時間 | ≤4s | ||
| 工作壓力 | -0.15Mpa~0.15Mpa | ||
| 流量控制 | 液晶觸摸屏控制,數字顯示,每路氣體含有針閥單獨控制 | ||
| 進氣接口 | 可接1/4NPS或者外徑6mm不銹鋼管 | ||
| 出氣接口 | 可接1/4NPS或者外徑6mm不銹鋼管 | ||
| 連接方式 | 雙卡套接頭 | ||
| 工作溫度 | 5~45℃ | ||
| 氣體預混 | 配氣體預混裝置 | ||
| 真空系統(tǒng)
| 產品型號 | CY-GZK103-A | |
| 分子泵 | 渦輪分子泵 | ||
| 前極泵 | 雙極旋片泵 | ||
| 抽氣速率 | 分子泵:600L/S | 綜合抽氣性能:30分鐘真空度可達:5×10E-3Pa | |
| 旋片泵:1.1L/S | |||
| 極限真空 | 5×10E-4Pa | ||
| 抽氣接口 | KF40 | ||
| 排氣接口 | KF16 | ||
| 真空測量 | 復合真空計 | ||
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