設(shè)備技術(shù)參數(shù)

1、使用條件：環(huán)境溫度5℃～40℃   電源：三相380 V,功率：≤20 KW，水壓：≤2.5bar

2、真空室尺寸：蒸發(fā)室尺寸：φ500×H500(㎜)

3、電子槍：新型電子槍1套，6穴坩堝

4、樣品轉(zhuǎn)盤：樣品尺寸：≤φ150mm，樣品可旋轉(zhuǎn)，也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500℃

5、系統(tǒng)真空度：

? 極限真空：經(jīng)12～24小時(shí)烘烤，連續(xù)抽氣≤5x10^-5Pa

? 抽氣速率：從大氣開始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10^-4Pa

? 系統(tǒng)漏率：整機(jī)漏率≤1×10^-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后，測(cè)量真空室真空度≤10Pa

6、抽真空系統(tǒng)：FB1200分子泵+機(jī)械泵(TRP-36)系統(tǒng)，并設(shè)置旁路抽氣

7、鍍膜監(jiān)測(cè)：采用SQM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測(cè)。

8、鍍膜厚度的不均勻度≤6%