等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。儀器元件高度集成化，在同一個(gè)腔體內(nèi)即實(shí)現(xiàn)了兩種鍍膜功能；本鍍膜儀采用高純石英腔體作真空腔體，鍍膜過(guò)程*可見(jiàn)。儀器標(biāo)配雙極旋片真空泵，能夠快速達(dá)到1.0E-1Pa的真空度，可滿足大多數(shù)蒸發(fā)鍍膜實(shí)驗(yàn)和二極濺射實(shí)驗(yàn)所需的真空環(huán)境。本儀器體積小，節(jié)省空間，能夠置于試驗(yàn)臺(tái)上使用，一機(jī)多用，性價(jià)比突出，非常適合各大高校及研究機(jī)構(gòu)選用。

小型二合一鍍膜儀適用范圍：

掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導(dǎo)體材料試驗(yàn)電極的制作等。

小型二合一鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

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