等離子濺射和蒸發(fā)二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發(fā)組件，不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜，也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或者其他金屬單質(zhì)的薄膜。為了提高鍍膜質(zhì)量，本臺(tái)二合一鍍膜儀采用的不銹鋼真空腔體配合精密分子泵的高真空設(shè)計(jì)，較高的真空度能夠有效的提升鍍膜純凈度和均勻度，有利于得到更好的實(shí)驗(yàn)效果。樣品臺(tái)有旋轉(zhuǎn)和加熱功能，能夠提高薄膜的附著力和成膜的均勻度。本儀器體積小，節(jié)省空間，能夠置于試驗(yàn)臺(tái)上使用，非常適合各大高校及研究機(jī)構(gòu)選用。

小型高真空二合一鍍膜儀適用范圍：

掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作，以及非導(dǎo)體材料試驗(yàn)電極的制作等。

小型高真空二合一鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

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