詳細(xì)介紹
全自動CVD滑軌爐設(shè)備操作時可將實(shí)驗需要的恒定高溫直接推到樣品處,使樣品能得到一個快速的升溫速度,同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處,使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下,得到快速的降溫速率。
適用于高校、科研院所、工礦企業(yè)做石墨烯的生長、高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗、真空退火,尤其適合需要快速升降溫的CVD試驗。
全自動CVD滑軌爐技術(shù)參數(shù):
項目 | 明細(xì) |
供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機(jī)功率 | 5KW |
工作溫度 | ≤1100℃ |
加熱速率 | 建議10℃/min |
爐管尺寸 | O.D.50mm-220mm-220mm(加熱區(qū))-1200mm管長 |
控溫精度 | 0.1℃ |
溫區(qū) | 雙溫區(qū) |
混氣系統(tǒng) | 4路質(zhì)子流量計:100sccm1個;200sccm1個;500sccm2個 |
真空泵 | 雙極旋片真空泵 |
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